中国专利与商标杂志

中国专利与商标杂志介绍

《中国专利与商标》是一本由中国专利与商标杂志社主管，中国专利与商标杂志社主办的一本面向国内外公开发行的政法类期刊，该刊主要报道政法相关领域的研究成果与实践。该刊已入选部级期刊。 影响因子为0.04 《中国专利与商标》主要内容栏目有業内信息、專題文章、專利、商標、商業秘密、知識産權制度、視角。

《中国专利与商标》主要发文机构有：国家知识产权局（发文量48篇），该机构主要研究主题为“专利法；专利权；利权；审查；侵权”；北京市第一中级人民法院（发文量46篇），该机构主要研究主题为“商标；纠纷；行政；纠纷案；法院”；北京市高级人民法院（发文量40篇），该机构主要研究主题为“民法；人民法院；法院；人民；高级人民法院”。

《中国专利与商标》主要发文主题有商标、法院、知识产权、民法、人民法院、产权、法律、侵权、专利法、行政。其中又以”商标（379篇）”居于榜首，发文量第二的是“法院”（358篇），发文量第三的是“知识产权”（348篇），发文主题最少的是“行政”，仅发文170篇。

中国专利与商标影响力及荣誉

• 维普收录(中)
• 国家图书馆馆藏
• 上海图书馆馆藏

中国专利与商标投稿注意事项

1、来稿要求：

本刊欢迎下列来稿：政法及相关学科领域的研究方面的论著，反映国内外政法学术动态的述评、论著、综述、讲座、学术争鸣的文稿，以及有指导意义的政法书刊评价等。文稿应具科学性、先进性、新颖性和实用性，内容翔实，简明扼要，重点突出，文字数据务求准确，层次清楚，标点符号准确，图表规范，书写规范。本刊不接受已公开发表的文章，严禁一稿两投。对于有涉嫌学术不端行为的稿件，编辑部将一律退稿，来稿确保不涉及保密、署名无争议等，文责自负。

2、作者简介：

述评、专家论坛、指南解读栏目来稿请附第一作者及通信作者的个人简介及近照。个人简介内容包括职称、职务、学术兼职、主要研究领域、主要研究成果、所获重大荣誉奖项等，字数以 100～300 字为宜。近照以 2 寸免冠彩色证件照为宜，格式为“.jpg”，像素不得低于 300 dpi。

3、文题：

文题力求简明、醒目，反映文稿主题，中文文题控制在 20 个汉字以内。题名中应避免使用非公知公用的缩略语、字符、代号以及结构式和公式。有英文摘要者同时给出英文文题，中英文文题含义应一致。

4、图表：

文中所有图表均需为作者自行制作而非引用他人文献中的图表。图表力求简明，设计应科学，避免与正文重复。凡能用少量文字说明的数据资料尽量不用图表。正文与表中数据应认真核对，准确无误，表内数据同一指标的有效位数应一致。