微细加工技术杂志

微细加工技术杂志介绍

《微细加工技术》是一本由信息产业部主管，中国电子科技集团公司第48研究所主办的一本面向国内外公开发行的电子类期刊，该刊主要报道电子相关领域的研究成果与实践。该刊已入选统计源期刊。 《微细加工技术》主要内容栏目有综述、电子束技术、离子束技术、光子束技术、薄膜技术、微机械加工技术、纳米技术。

《微细加工技术》主要发文机构有：中国科学院（发文量192篇），该机构主要研究主题为“光刻；电子束曝光；曝光机；电子束曝光机；掩模”；上海交通大学（发文量129篇），该机构主要研究主题为“微机电系统；电系统；机电系统；MEMS；刻蚀”；清华大学（发文量60篇），该机构主要研究主题为“微细；光刻；微细加工；离子束；聚焦离子束”。

《微细加工技术》主要发文主题有光刻、离子注入、电子束曝光、刻蚀、半导体、电路、微细、集成电路、微细加工、曝光机。其中又以”光刻（151篇）”居于榜首，发文量第二的是“离子注入”（105篇），发文量第三的是“电子束曝光”（79篇），发文主题最少的是“曝光机”，仅发文57篇。

微细加工技术影响力及荣誉

• EI 工程索引(美)
• 万方收录(中)
• 上海图书馆馆藏
• 国家图书馆馆藏
• 知网收录(中)
• 维普收录(中)
• Caj-cd规范获奖期刊
• 北大图书馆收录期刊

微细加工技术投稿注意事项

1、来稿要求：

本刊欢迎下列来稿：电子及相关学科领域的研究方面的论著，反映国内外电子学术动态的述评、论著、综述、讲座、学术争鸣的文稿，以及有指导意义的电子书刊评价等。文稿应具科学性、先进性、新颖性和实用性，内容翔实，简明扼要，重点突出，文字数据务求准确，层次清楚，标点符号准确，图表规范，书写规范。本刊不接受已公开发表的文章，严禁一稿两投。对于有涉嫌学术不端行为的稿件，编辑部将一律退稿，来稿确保不涉及保密、署名无争议等，文责自负。

2、作者简介：

述评、专家论坛、指南解读栏目来稿请附第一作者及通信作者的个人简介及近照。个人简介内容包括职称、职务、学术兼职、主要研究领域、主要研究成果、所获重大荣誉奖项等，字数以 100～300 字为宜。近照以 2 寸免冠彩色证件照为宜，格式为“.jpg”，像素不得低于 300 dpi。

3、文题：

文题力求简明、醒目，反映文稿主题，中文文题控制在 20 个汉字以内。题名中应避免使用非公知公用的缩略语、字符、代号以及结构式和公式。有英文摘要者同时给出英文文题，中英文文题含义应一致。

4、图表：

文中所有图表均需为作者自行制作而非引用他人文献中的图表。图表力求简明，设计应科学，避免与正文重复。凡能用少量文字说明的数据资料尽量不用图表。正文与表中数据应认真核对，准确无误，表内数据同一指标的有效位数应一致。