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中图分类号:TN305.94 文献标识码:A 文章编号:1671-7597(2013)12-0105-02
集成电路制造工艺复杂性与装备精密性对温度控制技术提出宽温区、大功率、超精密等严格要求。如刻蚀工艺设备中,由于不同刻蚀方法要求反应腔内的温度不同,需要冷却系统输出温度范围在-20℃~80℃、精度优于±0.5℃的循环冷却介质。硅片基底进行薄膜化学气相沉积工艺时,反应腔内温度达到300℃~1000℃,对冷却系统的温控精度要求不高,主要目的是带走内部大量热量,制冷功率达到100 kW、甚至更高。纳米级(100 nm)光刻机要求内部投影镜头和关键区域的温度稳定在±0.01℃,随着光刻工艺特征线宽(CD)的不断减小该指标还需不断提高,为此要求冷却系统输出的冷却介质的温度控制精度在±0.01℃。
冷却系统中制冷技术是最为关键的技术,制冷技术的选择恰当直接决定水冷系统的指标实现、方案复杂性与经济性等。
1 冷却系统介绍与制冷技术分析
上述冷却系统是专用提供温度、压力、流量受控的循环冷却介质的设备。它对内部加热、制冷执行器进行控制,实现内部循环冷却介质的温度控制,并与被控设备进行管路连接后,输送循环冷却介质至被控设备进行热交换,最终实现对被控设备的温度控制、热量转移的功能。如图1所示水冷系统主要由加热器、制冷系统、水泵、水箱、传感器、冷却水进出口组成,包含循环冷却介质回路、冷却水回路。制冷系统的主要作用是将循环冷却介质带出的热量通过热交换转移至工厂冷却水,最终带出设备。
制冷技术主要有三种方法,利用物质相变的吸热效应实现制冷;利用气体膨胀产生的冷效应进行制冷;利用半导体的热电效应实现制冷。其中以物质相变原理的蒸汽压缩式制冷最为常见,具有制冷效率高、冷却温度低的特点。压缩式制冷适合温度达到-20℃的低温冷却场合,并且对冷量控制技术的研究目前也有很大进展,如数码蜗旋式变频压缩机控制技术、PWM电子膨胀阀等,能够实现较高的温控精度。
热电制冷技术是利用直流电经过不同导体时发生热量转移的原理,利用热电制冷原理制造出的制冷元器件称为半导体制冷片,可以通过调节它电流的大小实现冷量的调节,具有调节精度高、制冷功率小的特点。此外,制冷片的冷却效率与它冷、热面的温差有很大关系,为保证一定的冷却效率,冷热面的温差需要控制在一定范围内,这限制了热电制冷的制冷温度。虽然光刻机内部投影镜头和关键区域的温度控制精度要求高,但主要用来平衡环境空气的温度波动及传感器、板卡的热量,冷却功率小,并且温度点在20℃左右。因此,热电制冷技术十分适合于光刻工艺设备的超精密温度控制。
此外转移热量也可以通过冷却水与循环冷却介质直接进行热交换器实现,即通过水、水强制对流的方式。该方式的传热系数达到2000 W/(m2·k)~15000W/(m2·k),在热交换两侧温差较大时可以实现很大的热交换功率。硅片基底进行薄膜化学气相沉积工艺中,对温度点没有严格精度要求,主要作用是带出大量热量、冷却反应腔体的温度,水、水热交换的制冷方式比较适合。
2 蒸汽压缩制冷系统
蒸汽压缩制冷系统如图2所示:制冷系统由压缩机、冷凝器、气液分离器、干燥过滤器、示液镜、膨胀阀和蒸发器组成。冷却水回路包括水力调节阀,循环冷却介质回路包括流量调节阀。压缩机制冷系统中的蒸发温度是较为恒定温度点,循环冷却介质温度为-20℃时蒸发温度一般设置略低-20℃,如果循环冷却介质的温度变为80℃将造成蒸发温度过高引起高低报警。为此,在高温工况下通过循环冷却介质回路的流量调节阀在换热前进行分流,避免了压缩机高低压报警。控制系统设计采用逻辑PID控制,运用PID算法分别对电子膨胀阀、流量调节阀和加热器的输出量进行调节,其中电子膨胀阀PID控制旨在监控压缩机吸气温度,避免吸气温度过高引起高、低压报警;流量调节阀PID控制旨在控制混流完成后循环冷却介质的温度,使它略低于设定工况;最终通过加热PID控制实现出水口优于±0.5℃的温度控制。
3 热电制冷技术
半导体制冷片经过直流电经过后会形成冷、热端,利用它的冷端可以进行制冷。如图3所示,将制冷片的冷、热端分别贴在冷端散热器与热端散热器,循环冷却介质经过冷端散热器被冷却,半导体制冷片将热量转移至热端散热器,最终冷却水经过热端散热器将热量带走。半导体制冷片与金属壁间为热传导,冷却水、循环冷却介质在散热器内为对流换热。
设计冷、热端散热器时需进行对流换热分析、热传导分析,还应考虑制冷片的温差与制冷量的关系、循环水的温控范围、冷却水的温度波动范围,以及目标制冷功率与最大电流等。降低半导体制冷片冷、热端的温差可以提高制冷效率。热端散热器的换热系数应设计大于冷端散热器,因为它除了转移循环冷却介质带出的热量外还要带出半导体制冷片自身发热的热量。通过控制半导体制冷片的供电电流大小来实现制冷量的调节,供电电路包括功率控制器、整流桥、保护元件等,功率控制器根据输入的控制信号调节输出三相电压的大小,整流桥将交流电压转换为直流电,供给制冷片。温度控制器根据实际温度与目标温度的差值,经处理器的算法运算,最终向功率控制器输出模拟量的控制信号。
4 水、水热交换制冷
循环冷却介质通过换热器与厂务供应的冷却水进行热交换来实现制冷。如图4所示,循环水回路包括温度传感器、流量调节阀;冷却水回路包括温度传感器、流量传感器、流量调节阀。循环冷却介质温度的调节是通过调节与冷却水发生热交换的支路流量实现,温度传感器、流量调节阀形成温度反馈控制系统。冷却水的温度与流量会影响制冷功率,因此在冷却水回路中增加温度、流量传感器进行监测。热交换器的设计与对流量调节阀控制是该方案的关键。
根据厂务冷却水的技术参数及使用工况确定热交换器的设计输入的参数:循环冷却介质侧的最低进水温度48℃、出水温度33℃、制冷功率100 kW、流量100 L/min;冷却水进水最高温度18℃、出水温度43℃、流量60 L/min;经分析换热系数为4350 W/(m2*K)、换热面积2.3 m2。选用西门子两通阀对流量进行调节,选型时应考虑最小调节量、响应时间。选用欧姆龙PLC作为控制器,根据循环冷却介质的当前温度与设定温度对两通阀的开度进行调节,实现温度控制,选用科宝公司流量传感器、温度传感器对冷却水流量、温度进行监测。该方案主要换热器与流量调节阀,简单、经济性高。
5 结论
集成电路制造工艺设备的温度控制涉及宽温区、大功率、超精密的复杂要求,制冷技术是温控技术的关键。本文分析上述温控特点与制冷技术,对宽温区(-20℃~80℃)场合提出蒸汽压缩式制冷方式,对大功率换热(100 kW)场合提出水、水热交换的制冷方式,对超精密(±0.01℃)场合提出热电制冷方式并对各方案的原理实现、控制技术进行探讨,提出旁通式蒸汽压缩机制冷技术、基于流量调节的温度反馈控制系统、基于半导体制冷片的制冷系统设计等。
参考文献
[1]机械工程师手册编委会.机械工程师手册[M].机械工程出版社,2007.
[2]姚汉民,胡松,刑延文.光学投影曝光微纳加工技术[M].北京工业大学出版社,2006.
关键词:高压输电线;造价分析;控制;措施
DOI:10.16640/ki.37-1222/t.2016.08.154
1 前言
经济发展直接导致区域用电规模的扩大,在这样的背景下,需要加强电网系统的配电能力,从而对于电力的稳定性和质量带来一定的影响,因此电力系统必须推进输电线路的建设以及完成区域内高压输电线施工。高压输电线路是电力系统建设中的基础项目,但是有在造价管理中存在潜在的风险较多,往往会在一定程度上降低高压输电线路建设的管理水平,因此针对高压输电线路管理存在的问题,提出相应的解决策略,能够有效避免出现投资失控等问题。
2 输电线路工程造价分析
工程造价管理是任何一个项目管理的重要一部分,在高压输电线路施工中也是重要的一部分,规范施工过程中的成本投入以及落实相应的预算支出,可以最大程度的提高施工企业的经济效益。随着我国大规模的投入高压输电线路建设,很多企业的造假管理一直保持高风险,主要体现在以下几个方面:
2.1 多样性
高压输电线路由于线路较长,在施工的过程中,由于不同区域的施工难度和需要的人手材料不同,所以必须重视施工过程中的平衡,实现多主题的控制,避免由于造价管理单一带来的风险;
2.2 动态性
高压输电线路自施工的过程中常常会受到许多因素的影响,造价工程无法保持在一个静态水平上;
2.3 系统性
高压输电线路中各项子工程存在内在的而联系,在进行造价管理的过程中,不能独立进行划分,存在一定的整体和系统性。
3 高压输电工程造价的影响因素
高压输电线路单位主要是以“万元/km”作为指标是,随着我国高压输电工程建设过程中更加的多样化,相应的气离散程度也会越来越复杂,影响高压输电工程造价主要包括以下几个方面:
3.1 自然环境因素
不同地区由于环境差别较多,对于平原地带,其相关的造价较低,对于处于山区和风速较大的地区,其造价也会在一定程度上提高,根据目前相关研究表明,地区的风速没提高一级,相应的杆塔数量会增加3成,相对而言,增加了工程造价。
3.2 技术因素
同样技术原因也会对工程造价产生较大的影响,目前的研究发现,在进行高压输电线路建设中,需要队工线路的输送量,导线的界面和回路等参数进行具体的分析,其中在这些参数中,输送量是影响造价工程最为重要的因素。如果要扩大工程的输送量,就必须在一定程度上增加导线的斜面积,因此在碱性输电网的建设之前,需要选择合理的输电导线,这样能够在一定程度上提高输电能力。
如果上述工作没有统计好,在进行实际施工中,截面积就会大大增加,截面积的巨大变化会造成耗材指标的变化,最终对整个工程的耗材也会产生较大影响。所以,在施工设计的过程中,需要合理的选择导线分裂数,紧凑施工的线路一方面可以通过增加分裂数来完成,另外导线方案的实施和塔形的合理建设也能够降低工程造价,也可以提高输电设备的电气功能。
耐张比是高压输电线路施工的影重要概念,值得是耐张塔的数量和杆塔总数量的比值,由于耐张塔的结构较为复杂,同时耐张塔的结构较为复杂,对于材料和结构的要求更高,因此会增加工程的造假,耐张比需要控制在一定的范围以内。另外,在线路设计中,需要尽量的减少曲折系数,受到区域的影响,曲折系数会有很大的变化,但是无论曲折系数怎么变化,最终需要降低曲折系数,实现造价控制。
4 控制输电线路工程造价的技术措施
4.1 做好施工准备工作
在进行高压输电线路施工之前,对线路进行有效的勘察较为重要,由于高压输电线路较长,同时在进行施工的过程中宏还会涉及到林区的砍伐,房屋的拆迁,合理的规划线路是施工准备工作的重要一步。
线路优化的原则是减少房屋的拆迁,同时还需要避开一些煤炭长等比较稀疏的地带,另外在对地形进行勘察的过程中,还需要沿线地区污染位置的分布图,有效规划高压输电线路周边污区的分布图,能够有效实现绝缘配置优化,在技术上实现串联布置的方式,降低施工成本。
4.2 做好杆塔排位设计
杆塔的排位问题一直是设计中的重点,在进行杆塔排位的过程中,可以采用黄金分割法,对噶他的水平在和垂直在和等受力进行分析,从而最终的确定杆塔的数量,研究表明,通过科学设计最大能够降低3%它重。另外在进行施工的过程中,需要做好基础的配置工作,根据杆塔设计的位置,做好土方开挖量的计算,对施工现场的地下水和土石的开挖量进行计算,做好相关钢筋材料使用的预算工作。
4.3 优化材料运输、使用
针对具体的造假控制,一方面按照环境勘测人员勘测的数据,对塔基的平面图做好准确的计算工作,高压输电线路施工需要做到零基础进行开挖,一方面能够降低施工过程中的成本,另外一方面能够降低水土流失,由于工程造价中,运输费用在工程造价中占有非常重要的比例,在材料的选购中,做好采购点的制定和运输方案的选择,能够最终降低造价成本。此外,材料的合理利用是造价管理的重要方面,优化材料,避免材料浪费。因此从这个角度上讲,高压输电线路的施工造价管理贯穿于整个工程造价中,采用全面的造价管理,能够为企业合理的工程造价提供指导,保证在高压输电线路质量安全的前提下,最大程度的降低工程造价。
5 结束语
综上所述,高压输电线路和普通的工程建设存在一定的差异,由于建设较为复杂,同时工程的不确定因素较大,因此在进行高压输电线路施工中,为了实现造价控制,必须在高压输电线路建设之前,做好相应的准备工作,优化线路设计,从而保证高压输电线路质量的前提下,实现高压输电线路的造假控制。
参考文献:
[1]杨巍.高压输电线路工程造价分析及其控制[J].环球市场信息导报:月末版,2014(07):106.
[2]史玮.浙江省输电线路工程造价管理研究[D].华北电力大学, 2015.
关键词:输电线路,线路设计,工程造价
一、设计阶段工程造价控制存在问题分析
1.设计深度不够使工程造价得不到有效控制
近几年来,电力工程的建设项目多、进度要求快, 各级电力勘察设计单位承担的设计任务也大幅增加。一些设计单位在遇到设计任务重、时间紧的时候,往往无法做到深入细致的调查研究,工作敷衍了事,未按国家标准进行设计,对具体设计方案缺乏比较,以及设计水平不高,审查制度不严等,最终造成项目设计深度不够、套用图纸不适等导致设计变更增多, 使工程造价得不到有效控制。
2.工程设计和投资控制联系不够紧密
在实际工作中, 由于送电工程专业技术性强的特点, 一般都是勘测设计人员根据设计委托进行现场调查、勘测和方案比较, 分阶段提供条件给造价人员编制估算或概预算。但是长期以来,技术人员由于缺乏经济观念,往往无法提供编制概预算所需的全部条件;而从事概预算编制的人员不熟悉工程设计和施工的工艺,无法吃透相关定额、标准的内涵,不能主动收集或向技术人员索取所需的全部条件,导致编制的概预算存在缺项、漏项或重复计算、高估冒算的情况,难以真实反映施工现场费用,有效地控制造价。
3.缺乏信息反馈和项目后评价程序
项目完成后由于缺乏造价成本信息反馈和缺少项目的后评价程序使设计单位缺少机会了解实际发生的工程成本, 无法进行事后分析, 在以后工作当中又有可能将问题带入下一个项目中, 不能进一步提高造价控制工作的质量。
二、设计阶段工程造价控制的措施
1.健全设计单位经济责任制,严格控制工程成本,提高竞争意识
设计单位和主管部门对于设计节约和浪费应制定明确的奖罚标准:对因设计原因而造成的工程浪费、工期延误及超出投资限额的损失,要追究设计人员责任;对科学合理、经济的方案予与奖励。促使设计人员增强主观能动性,提高自身素质和相互间竞争的能力, 增强为业主控制投资成本, 提高竞争意识。
2.推行限额设计,全面推广工程典型造价运用工作,加强技术和经济的有机结合
所谓限额设计,就是按照批准的可行性研究报告和投资估算,在保证质量、功能要求的前提下,控制初步设计;按照批准的初步设计编制概算,控制施工图设计和预算;同时,各专业要按分配的投资额来控制设计。限额设计必须贯穿于勘察设计的全过程。
推行限额设计有利于强化设计人员对工程全过程的造价意识, 有利于经济管理人员及时进行造价计算, 为设计人员提供信息, 使勘测设计小组内部形成有机整体, 克服设计深度不够及勘测设计相互脱节的现象, 改变设计过程不算账、设计完成见分晓的现象, 使投资达到动态控制的目的。同时, 推行限额设计还可以促使设计和造价人员进行项目全寿命费用的分析, 使他们不仅要考虑项目一次性的投资, 还要考虑施工阶段和运行后的经济费用。比如: 在输电线路工程项目设计过程中对于线路选线定位以及在雷区的防雷、冰区的避冰、抗冰、防冰、融冰等对运行成本影响较大设计方案的优化时, 就有利于设计人员进行全面分析、仔细考虑、认真权衡, 最大限度降低工程成本, 在投资限额内控制好工程造价。
送电线路工程典型造价是国家电网公司加强工程造价管理,降低工程造价,提高投资效益的重要手段。在送电线路典型设计的基础上,按照各模块的使用条件,通过对大量实际工程的统计、分析,合理确定典型工程断面,再结合各地区各电压等级线路的特点,科学设定设计所需的边界条件,形成典型方案。然后,典型造价在典型方案的基础上编制完成。典型造价成果体现了科学性,先进性,合理性和适用性。在实际工程设计中,必须按照典型造价进行严格把关,若工程主要条件与典型方案有差异而产生造价费用偏差,应对各项技术经济指标进行严格认真的分析比较,直至该设计方案的造价指标在合理范围内。推广典型造价,有利于科学建立工程造价标准,合理评价工程技术经济指标水平,有效控制工程投资,努力降低电网工程建设成本。
3.优化设计方案,有效控制工程造价
设计是工程建设的灵魂, 设计成果的好坏对造价影响很大,因此必须尽可能地优化设计成果。根据国家发展和改革委员会2007年的《电网工程建设预算编制与计算标准》的规定,架空送电线路工程静态投资主要由四个方面构成:即本体工程费、辅助设施工程费、编制年价差和其他费用。本体工程费一般占65%~75%左右,辅助设施工程费一般占0.3%左右,编制年价差正常情况一般占5%~10%左右;其他费用一般占15%~30%左右。从投资构成上看,编制年价差虽然也占一定的投资比例,但它的高低主要受人工、材料、机械要素的市场价格波动影响,对投资主体来说为不可控因素,故对架空送电线路工程造价控制的重点应该是对本体工程费用控制和其他费用控制。
本体工程由六项单位工程构成:工地运输、土石方工程、基础工程、杆塔工程、架线工程、附件工程。按静态投资对各个因素的敏感程度来排序,较高的是杆塔指标、人力运距、基础混凝土。因此,在设计阶段对本体工程的控制重点应主要控制这三个技术指标。
其他费用从构成上主要包括:建设场地征用及清理费,项目建设管理费、项目建设技术服务费、整套启动试运费、生产准备费、辅助施工费、基本预备费等。除建设场地征用及清理费用外,其它各项费用一般有较明确的开支项目和费用标准,概预算编制也有规定的费率计取标准,管理和控制较容易,工程实践中这些项目很少出现超支问题。因此,对其他费用的控制重点是在建设场地征用及清理费的控制。
(1)优化线路路径
对送电线路来说, 路径优化是设计工作的第一步, 也是控制工程造价的重要措施。路径的选择影响本体工程的多个单位工程,是影响整个工程造价的主要因素。设计人员在设计前,要十分重视沿线气象条件、地形、地质、水文、污秽等级、现有可利用交通条件、重要交叉跨越、重大障碍物拆迁等资料的收集工作。不能片面追求路径最短化,而必须在满足所属地区规划部门要求及避让通信、军事等设施前提下,考虑安全运行、方便施工、降低造价、经济运行、障碍物处理及大跨越情况基础上,对线路路径的多方案进行综合比选,选择技术经济最优的方案,例如:拆除建筑物和居民住房, 砍伐经济林木或防护林,跨越采石厂等都会增加拆迁补偿费用,影响到其他费用中的建设场地征用及清理费的控制;不良地质会增加基础建设投入;而不良地形更会增加工程的总体造价。
(2)合理选择导线、地线
导线截面的选择应综合考虑线路的输送目的地负荷容量及负荷增长情况、导线制造、架线施工、运行维护等多方面因素,进行技术、经济的综合比较。发挥地线在防雷保护、通信等方面的综合作用,合理配置OPGW、良导体及普通地线,使选择的导线、地线既要满足技术上的要求,又要保证工程投资的经济合理。
(3)合理规划塔型
影响线路投资最敏感的因素就是塔材量, 不同的杆塔型式在造价、占地、施工、运输和运行安全等方面均不相同。减少每公里塔材的耗钢量是降低造价的最有效途径。如每公里减少1 吨的塔材, 那么每公里可减少材料费及施工费用等各项投资约1 万元。虽然每公里塔材的耗钢量不可能无限制地减少, 但从以往工程统计分析看, 不同的线路在标准相差不多的条件下, 每公里塔材耗钢量可相差几吨。因此,在设计阶段,必须根据工程地形地貌条件, 精心规划工程需要的各种塔型,在满足使用条件下选用耗钢量较少的杆型;同时,降低线路曲折系数, 增加直线杆塔使用比例, 以降低杆塔耗钢指标,从而控制工程造价。还可以结合近、远景规划,使用双回路或多回路铁塔,这样目前工程的造价虽然会高了点,但为以后的工程建设项目预留下线路走廊,避免或减少了下个工程的工地运输、土石方工程、基础工程、杆塔工程的施工工程量及建设场地清理费,从总体上讲还是会大大降低工程造价。
(4)优化杆塔基础形式
杆塔基础作为输电线路结构的重要组成部分,它的造价、工期和劳动消耗量在整个线路工程中占很大比重。其施工工期约占整个工期一半时间,运输量约占整个工程的60%,费用约占整个工程的20%~35%,基础选型、设计及施工的优劣直接影响着线路工程的建设。在基础设计方面, 根据每基杆塔的基础作用力和地形地质条件,优先采用掏挖、嵌固、岩石基础等原状土基础, 并积极采用技术先进的基础型式和杆塔全方位高低腿、不等高基础等, 可大大减少工程中土石方量和混凝土量, 同时也减少了对自然环境和地面植被的破坏, 有效地减少建设场地清理费,节约工程的投资。
4.加强设计变更的管理
在项目建设过程中, 不可避免会发生设计变更。设计变更有业主的功能性变更与设计的技术变更,设计变更管理主要是针对设计的技术变更管理。技术变更又分施工图设计变更与施工中的设计变更,施工中的变更主要是材料设备采购变更和现场施工变更;施工图设计变更会产生基础或结构局部变更,从而影响工程的造价;再者,设计变更管理还涉及到变更所处的时间段的问题,对非发生不可的变更, 设计人员应主动深入了解情况,争取把设计变更控制在最小范围:在设计阶段发生变更,只修改设计图,损失就少;在采购阶段发生变更,不仅要修改图纸,还得要采购新的材料和设备;若是在施工阶段发生变更,不但是设计图和材料设备的变更,而且会造成返工、拆除、重做,势必产生重大变更损失,造成浪费。总之,要严格控制设计变更,变更前要算好账,论证其合理性、必要性再变更,严格履行变更程序,加强设计变更管理,使变更控制在限额内,达到有效地控制工程造价。
5.形成跟踪制度
设计部门应形成跟踪制度,主动跟踪工程项目的建设过程直至工程财务决算。对发生“三超”的工程项目,设计部门应及时总结发生问题的主、次方面原因,区分对待。属于因设计阶段造成的,应针对其发生的原因,制定对应的规范、规定,保证同类型的问题在今后的工程中不再发生。同时,应加强与兄弟设计单位的横向联系,借鉴其优点与不足之处。
1、集成电路产业是信息产业的核心,是国家基础战略性产业。
集成电路(IC)是集多种高技术于一体的高科技产品,是所有整机设备的心脏。随着技术的发展,集成电路正在发展成为集成系统(SOC),而集成系统本身就是一部高技术的整机,它几乎存在于所有工业部门,是衡量一个国家装备水平和竞争实力的重要标志。
2、集成电路产业是技术资金密集、技术进步快和投资风险高的产业。
80年代建一条6英寸的生产线投资约2亿美元,90年代一条8英寸的生产线投资需10亿美元,现在建一条12英寸的生产线要20亿-30亿美元,有人估计到2010年建一条18英寸的生产线,需要上百亿美元的投资。
集成电路产业的技术进步日新月异,从70年代以来,它一直遵循着摩尔定律:芯片集成元件数每18个月增加一倍。即每18个月芯片集成度大体增长一倍。这种把技术指标及其到达时限准确地摆在竞争者面前的规律,为企业提出了一个“永难喘息”,否则就“永远停息”的竞争法则。
据世界半导体贸易统计组织(WSTS)**年春季公布的最新数据,**年世界半导体市场销售额为1664亿美元,比上年增长18.3%。其中,集成电路的销售额为1400亿美元,比上年增长16.1%。
3、集成电路产业专业化分工的形成。
90年代,随着因特网的兴起,IC产业跨入以竞争为导向的高级阶段,国际竞争由原来的资源竞争、价格竞争转向人才知识竞争、密集资本竞争。人们认识到,越来越庞大的集成电路产业体系并不有利于整个IC产业发展,分才能精,整合才成优势。
由于生产效率低,成本高,现在世界上的全能型的集成电路企业已经越来越少。“垂直分工”的方式产品开发能力强、客户服务效率高、生产设备利用率高,整体生产成本低,因此是集成电路产业发展的方向。
目前,全世界70%的集成电路是由数万家集成电路设计企业开发和设计的,由近十家芯片集团企业生产芯片,又由数十家的封装测试企业对电路进行封装和测试。即使是英特尔、超微半导体等全能型大企业,他们自己开发和设计的电路也有超过50%是由芯片企业和封装测试企业进行加工生产的。
IC产业结构向高度专业化转化已成为一种趋势,开始形成了设计业、制造业、封装业、测试业独立成行的局面。
二、苏州工业园区的集成电路产业发展现状
根据国家和江苏省的集成电路产业布局规划,苏州市明确将苏州工业园区作为发展集成电路产业的重点基地,通过积极引进、培育一批在国际上具有一定品牌和市场占有率的集成电路企业,使园区尽快成为全省、乃至全国的集成电路产业最重要基地之一。
工业园区管委会着眼于整个高端IC产业链的引进,形成了以“孵化服务设计研发晶圆制造封装测试”为核心,IC设备、原料及服务产业为支撑,由数十家世界知名企业组成的完整的IC产业“垂直分工”链。
目前整个苏州工业园区范围内已经积聚了大批集成电路企业。有集成电路设计企业21户;集成电路芯片制造企业1家,投资总额约10亿美元;封装测试企业11家,投资总额约30亿美元。制造与封装测试企业中,投资总额超过80亿元的企业3家。上述33家集成电路企业中,已开业或投产(包括部分开业或投产)21家。**年,经过中国半导体行业协会集成电路分会的审查,第一批有8户企业通过集成电路生产企业的认定,14项产品通过集成电路生产产品的认定。**年,第二批有1户企业通过集成电路生产企业的认定,102项产品通过集成电路生产产品的认定。21户设计企业中,有3户企业通过中国集成电路行业协会的集成电路设计企业认定(备案)。
1、集成电路设计服务企业。
如中科集成电路。作为政府设立的非营利性集成电路服务机构,为集成电路设计企业提供全方位的信息服务,包括融资沟通、人才培养、行业咨询、先进的设计制造技术、软件平台、流片测试等。力争扮演好园区的集成电路设计“孵化器”的角色。
2、集成电路设计企业。
如世宏科技、瑞晟微电子、忆晶科技、扬智电子、咏传科技、金科集成电路、凌晖科技、代维康科技、三星半导体(中国)研究开发中心等。
3、集成电路芯片制造企业。
和舰科技。已于**年5月正式投产8英寸晶圆,至**年3月第一条生产线月产能已达1.6万片。第二条8英寸生产线已与**年底开始动工,**年第三季度开始装机,预计将于2005年初开始投片。到今年年底,和舰科技总月产能预计提升到3.2万片。和舰目前已成功导入0.25-0.18微米工艺技术。近期和舰将进一步引进0.15-0.13微米及纳米技术,研发更先进高阶晶圆工艺制造技术。
4、集成电路封装测试企业。
如三星半导体、飞索半导体、瑞萨半导体,矽品科技(纯代工)、京隆科技(纯代工)、快捷半导体、美商国家半导体、英飞凌科技等等。
该类企业目前是园区集成电路产业的主体。通过多年的努力,园区以其优越的基础设施和逐步形成的良好的产业环境,吸引了10多家集成电路封装测试企业。以投资规模、技术水平和销售收入来说,园区的封装测测试业均在国内处于龙头地位,**年整体销售收入占国内相同产业销售收入的近16%,行业地位突出。
园区封装测试企业的主要特点:
①普遍采用国际主流的封装测试工艺,技术层次处于国内领先地位。
②投资额普遍较大:英飞凌科技、飞利浦半导体投资总额均在10亿美元以上。快捷半导体、飞索半导体、瑞萨半导体均在原先投资额的基础进行了大幅增资。
③均成为所属集团后道制程重要的生产基地。英飞凌科技计划产能要达到每年8亿块记忆体(DRAM等)以上,是英飞凌存储事业部最主要的封装测试基地;飞索半导体是AMD和富士通将闪存业务强强结合成立的全球最大的闪存公司在园区设立的全资子公司,园区工厂是其最主要的闪存生产基地之一。
5、配套支持企业
①集成电路生产设备方面。有东和半导体设备、爱得万测试、库力索法、爱发科真空设备等企业。
②材料/特殊气体方面。有英国氧气公司、比欧西联华、德国梅塞尔、南大光电等气体公司。有住友电木等封装材料生产企业。克莱恩等光刻胶生产企业。
③洁净房和净化设备生产和维护方面。有久大、亚翔、天华超净、MICROFORM、专业电镀(TECHNIC)、超净化工作服清洗(雅洁)等等。
**年上半年,园区集成电路企业(全部)的经营情况如下(由园区经发局提供略):
根据市场研究公司iSuppli今年初的**年全球前二十名半导体厂家资料,目前,其中已有七家在园区设厂。分别为三星电子、瑞萨科技、英飞凌科技、飞利浦半导体、松下电器、AMD、富士通。
三、集成电路产业涉及的主要税收政策
1、财税字[2002]70号《关于进一步鼓励软件产业的集成电路产业发展税收政策的通知》明确,自2002年1月1日起至2010年底,对增值税一般纳税人销售其自产的集成电路产品(含单晶硅片),按17%的税率征收增值税后,对其增值税实际税负超过3%的部分实行即征即退政策。
2、财税字[**]25号《关于鼓励软件产业的集成电路产业发展有关税收政策问题的通知》明确,“对我国境内新办软件生产企业经认定后,自开始获利年度起,第一年和第二年免征企业所得税,第三年至第五年减半征收企业所得税”;“集成电路设计企业视同软件企业,享受软件企业的有关税收政策”。
3、苏国税发[**]241号《关于明确软件和集成电路产品有关增值税问题的通知》明确,“凡申请享受集成电路产品税收优惠政策的,在国家没有出台相应认定管理办法之前,暂由省辖市国税局商同级信息产业主管部门认定,认定时可以委托相关专业机构进行技术评审和鉴定”。
4、信部联产[**]86号《集成电路设计企业及产品认定管理办法》明确,“集成电路设计企业和产品的认定,由企业向其所在地主管税务机关提出申请,主管税务机关审核后,逐级上报国家税务总局。由国家税务总局和信息产业部共同委托认定机构进行认定”。
5、苏国税发[**]241号《关于明确软件和集成电路产品有关增值税问题的通知》明确,“对纳税人受托加工、封装集成电路产品,应视为提供增值税应税劳务,不享受增值税即征即退政策”。
6、财税[1994]51号《关于外商投资企业和外国企业所得税法实施细则第七十二条有关项目解释的通知》规定,“细则第七十二条第九项规定的直接为生产服务的科枝开发、地质普查、产业信息咨询业务是指:开发的科技成果能够直接构成产品的制造技术或直接构成产品生产流程的管理技术,……,以及为这些技术或开发利用资源提供的信息咨询、计算机软件开发,不包括……属于上述限定的技术或开发利用资源以外的计算机软件开发。”
四、当前税收政策执行中存在的问题
1、集成电路设计产品的认定工作,还没有实质性地开展起来。
集成电路设计企业负责产品的开发和电路设计,直接面对集成电路用户;集成电路芯片制造企业为集成电路设计企业将其开发和设计出来的电路加工成芯片;集成电路封装企业对电路芯片进行封装加工;集成电路测试企业为集成电路进行功能测试和检验,将合格的产品交给集成电路设计企业,由设计企业向集成电路用户提供。在这个过程中,集成电路产品的知识产权和品牌的所有者是集成电路设计企业。
因为各种电路产品的功能不同,生产工艺和技术指标的控制也不同,因此无论在芯片生产或封装测试过程中,集成电路设计企业的工程技术人员要提出技术方案和主要工艺线路,并始终参与到各个生产环节中。因此,集成电路设计企业在集成电路生产的“垂直分工”体系中起到了主导的作用。处于整个生产环节的最上游,是龙头。
虽说IC设计企业远不如制造封装企业那么投资巨大,但用于软硬件、人才培养的投入也是动则上千万。如世宏科技目前已积聚了超过百位的来自高校的毕业生和工作经验在丰富的技术管理人才。同时还从美国硅谷网罗了将近20位累计有200年以上IC产品设计经验、拥有先进技术的海归派人士。在人力资源上的投入达450万元∕季度,软硬件上的投入达**多万元。中科集成电路的EDA设计平台一次性就投入2500万元。
园区目前共有三户企业被国家认定为集成电路设计企业。但至关重要的集成电路设计产品的认定一家也未获得。由于集成电路设计企业的主要成本是人力成本、技术成本(技术转让费),基本都无法抵扣。同时,研发投入大、成品风险高、产出后的计税增值部分也高,因此如果相关的增值税优惠政策不能享受,将不利于企业的发展。
所以目前,该类企业的研发主体大都还在国外或台湾,园区的子公司大多数还未进入独立产品的研发阶段。同时,一些真正想独立产品研发的企业都处于观望状态或转而从事提供设计服务,如承接国外总公司的设计分包业务等。并且由于享受优惠政策前景不明,这些境外IC设计公司往往把设在园区的公司设计成集团内部成本中心,即把一部分环节研发转移至园区,而最终产品包括晶圆代工、封装测试和销售仍在境外完成。一些设计公司目前纯粹属于国外总公司在国内的售后服务机构,设立公司主要是为了对国外总公司的产品进行分析,检测、安装等,以利于节省费用或为将来的进入作准备。与原想象的集成电路设计企业的龙头地位不符。因此,有关支持政策的不能落实将严重影响苏州工业园区成为我国集成电路设计产业的重要基地的目标。
2、集成电路设计企业能否作为生产性外商投资企业享受所得税优惠未予明确。
目前,园区共有集成电路设计企业23家,但均为外商投资企业,与境外母公司联系紧密。基本属于集团内部成本中心,离产品研发的本地化上还有一段距离。但个别公司已在本地化方面实现突破,愿承担高额的增值税税负并取得了一定的利润。能否据此确认为生产性外商投资企业享受“二免三减半”等所得税优惠政策,目前税务部门还未给出一个肯定的答复。
关键是所得税法第七十二条“生产性外商投资企业是指…直接为生产服务的科技开发、地质普查、产业信息咨询和生产设备、精密仪器维修服务业”的表述较为含糊。同时,财税[1994]51号对此的解释也使税务机关难以把握。
由于集成电路设计业是集成电路产业链中风险最大,同时也是利润最大的一块。如果该部分的所得税问题未解决,很难想象外国公司会支持国内设计子公司的独立产品研发,会支持国内子公司的本土化进程。因此,生产性企业的认定问题在一定程度上阻碍了集成电路设计企业的发展壮大。
3、目前的增值税政策不能适应集成电路的垂直分工的要求。
在垂直分工的模式下,集成电路从设计芯片制造封装测试是由不同的公司完成的,每个公司只承担其中的一个环节。按照国际通行的半导体产业链流程,设计公司是整条半导体生产线的龙头,受客户委托,设计有自主品牌的芯片产品,然后下单给制造封装厂,并帮助解决生产中遇到的问题。国际一般做法是:设计公司接受客户的货款,并向制造封装测试厂支付加工费。各个制造公司相互之间的生产关系是加工关系而非贸易关系。在财务上只负责本环节所需的材料采购和生产,并不包括上环节的价值。在税收上,省局明确该类收入目前不认可为自产集成电路产品的销售收入,因此企业无法享受国家税收的优惠政策。
而在我国现行的税收体制下,如果整个生产环节都在境内完成,则每一个加工环节都要征收17%的增值税,只有在最后一个环节完成后,发起方销售时才会退还其超过3%的部分,具体体现在增值税优惠方面,只有该环节能享受优惠。因此,产业链各环节因为享受税收政策的不同而被迫各自依具体情况采取不同的经营方式,因而导致相互合作困难,切断了形式上的完整产业链。
国家有关文件的增值税政策的实质是侧重于全能型集成电路企业,而没有充分考虑到目前集成电路产业的垂直分工的格局。或虽然考虑到该问题但出于担心税收征管的困难而采取了一刀切的方式。
4、出口退税率的调整对集成电路产业的影响巨大。
今年开始,集成电路芯片的出口退税税率由原来的17%降低到了13%,这对于国内的集成电路企业,尤其是出口企业造成了成本上升,严重影响了国内集成电路生产企业的出口竞争力。如和舰科技,**年1-7月,外销收入78322万元,由于出口退税率的调低而进项转出2870万元。三星电子为了降低成本,贸易方式从一般贸易、进料加工改为更低级别的来料加工。
集成电路产业作为国家支持和鼓励发展的基础性战略产业,在本次出口退税机制调整中承受了巨大的压力。而科技含量与集成电路相比是划时代差异的印刷线路板的退税率却保持17%不变,这不符合国家促进科技进步的产业导向。
五、关于促进集成电路产业进一步发展的税收建议
1、在流转税方面。
(1)集成电路产业链的各个生产环节都能享受增值税税收优惠。
社会在发展,专业化分工成为必然。从鼓励整个集成电路行业发展的前提出发,有必要对集成电路产业链内的以加工方式经营的企业也给予同样的税收优惠。
(2)集成电路行业试行消费型增值税。
由于我国的集成电路行业起步低,目前基本上全部的集成电路专用设备都需进口,同时,根据已有的海关优惠政策,基本属于免税进口。调查得知,园区集成电路企业**年度购入固定资产39亿,其中免税购入的固定资产为36亿。因此,对集成电路行业试行消费型增值税,财政压力不大。同时,既体现了国家对集成电路行业的鼓励,又可进一步促进集成电路行业在扩大再生产的过程中更多的采购国产设备,拉动集成电路设备生产业的发展。
2、在所得税方面。
(1)对集成电路设计企业认定为生产性企业。
根据总局文件的定义,“集成电路设计是将系统、逻辑与性能的设计要求转化为具体的物理版图的过程”。同时,集成电路设计的产品均为不同类型的芯片产品或控制电路。都属中间产品,最终的用途都是工业制成品。因此,建议对集成电路设计企业,包括未经认定但实际从事集成电路设计的企业,均可适用外资所得税法实施细则第七十二条之直接为生产服务的科技开发、地质普查、产业信息咨询和生产设备、精密仪器维修服务业属生产性外商投资企业的规定。
(2)加大间接优惠力度,允许提取风险准备金。
计提风险准备金是间接优惠的一种主要手段,它虽然在一定时期内减少了税收收入,但政府保留了今后对企业所得的征收权力。对企业来说它延迟了应纳税款的时间,保证了研发资金的投入,增强了企业抵御市场风险的能力。
集成电路行业是周期性波动非常明显的行业,充满市场风险。虽然目前的政策体现了加速折旧等部分间接优惠内容,但可能考虑到征管风险而未在最符合实际、支持力度最直接的提取风险准备金方面有所突破。
3、提高集成电路产品的出口退税率。
鉴于发展集成电路行业的重要性,建议争取集成电路芯片的出口退税率恢复到17%,以优化国内集成电路企业的投资和成长环境。
4、关于认定工作。
(1)尽快进行集成电路设计产品认定。
目前的集成电路优惠实际上侧重于对结果的优惠,而对设计创新等过程(实际上)并不给予优惠。科技进步在很大程度上取决于对创新研究的投入,而集成电路设计企业技术创新研究前期投入大、风险高,此过程最需要税收上的扶持。
鉴于集成电路设计企业将有越来越多产品推出,有权税务机关和相关部门应协调配合,尽快开展对具有自主知识产权的集成电路设计产品的认定工作。
(2)认定工作应由专业机构来完成,税务机关不予介入。
据国外权威机构预测,未来10年内,世界半导体年平均增长率仍将达15%以上,到2010 年全世界半导体的年销售额可达到6000~8000亿美元,它将支持4~5万亿美元的电子装备市场。
我国为了支持鼓励集成电路产业的发展,2000年以来,国务院颁布了《鼓励软件和集成电路产业发展的若干政策》,这对我国集成电路产业的发展起到了历史性推动作用。目前,我国集成电路产业初步形成了设计业、芯片制造业及封装测试业三业并举、相互协调的发展格局,已成为有一定规模的高成长性产业,同时是全球集成电路产业发展最快的地区之一。
当前,集成电路的技术进步日新月异,集成电路技术已进入纳米级时代。世界集成电路大生产的主流技术从8英寸、0.25微米,正向12英寸、0.18微米过渡,根据美国半导体协会(SIA)预测,到2010年将能达到18英寸、0.07~0.05微米。我国集成电路产业的“十一五”规划基本目标是2006年到2010年,年均增长率为30%左右,2010年整个行业的销售收入达到3000亿元人民币,占全球市场的8%左右。集成电路制造工艺达到12英寸、90~65纳米。IC设计技术达到90~65微米。封装测试方面,BGA、SiP、CSP、MCM等形式能够达到规模生产。
我国信息产业的持续快速发展为集成电路提供了稳定的市场,如电子信息产品制造业的发展为集成电路产业提出巨大的市场需求;通信运营业的高速发展为集成电路产业提供新的需求;国民经济和社会信息化建设的继续推进给集成电路产业创造新的发展空间。国家重大工程和一些新项目的启动必将为集成电路产业创造大量新的增长点。
在稳定的市场环境中,我国在集成电路的技术发展中取得了诸多成绩。如,由我国独自制定的“TD-SCDMA”标准,该标准受到各大主要电信设备厂商的重视,全球一半以上的设备厂商都宣布可以支持“TD-SCDMA”标准,这为中国3G的发展创造良好环境;由中国科学院计算技术研究所承担的国家“863”计划项目 “龙芯2号增强型处理器芯片设计”所取得的成果攻克了具有自主知识产权的通用高性能芯片等一大批关键核心技术;国家“863”重大专项100纳米离子注入项目研制成功,标志着我国集成电路制造核心装备研发取得了重大突破,在该领域为自主创新产业。
在当前集成电路封装制造中,考虑到集成电路封装的制造特点以及生产现状,要想提高集成电路封装制造的生产效率,就要立足现有生产条件,对生产流程和生产程序进行优化,并把握生产原则,制定具体的生产方案,保证集成电路封装制造能够在生产效率上获得全面提高。基于这一认识,我们应对集成电路封装制造引起足够的重视,认真分析其生产流程特点,从产品特性分析和产品制造流程优化入手,为集成电路封装制造提供有力的支持,保证集成电路封装制造的生产效率满足实际需要。
【关键词】集成电路 封装制造 生产效率
1 前言
结合当前集成电路封装制造实际,集成电路封装的生产效率,是决定集成电路封装制造效果的重要因素,只有全面提高生产效率,才能满足集成电路封装制造需要,为集成电路封装制造提供有力支持。为此,集成电路封装制造要想提高生产效率,就要对现有生产流程进行完善,并制定操作性较强的生产计划,同时还要对设备人员配比进行优化,真正从生产流程和制造现场入手,制定完善的生产计划,保证集成电路封装制造生产效率能够得到全面提高,满足集成电路封装制造需要。
2 集成电路封装制造,应对现有生产流程进行完善
通过对集成电路封装制造过程进行了解后可知,生产流程是决定生产效率的重要因素,只有建立完善的生产流程,才能保证集成电路封装制造取得积极效果。为此,集成电路封装制造生产效率的提高,应从对现有生产流程进行完善入手,具体应做好以下几个方面工作:
2.1 对现有生产流程进行深入了解,总结生产流程不足
在对生产流程进行完善之前,需要对现有的生产流程进行全面了解,并对生产流程的特点和要素进行全面了解,做到总结现有生产流程的不足,为生产流程的优化提供有力支持,保证生产流程的完善能够满足生产需要并取得实效。
2.2 根据产品特点,对现有生产流程进行完善
基于提高产品生产效率的现实需要,在集成电路封装制造过程中,应根据产品特点对现有生产流程进行完善,将侧重点放在生产流程的合理性和生产效率上。结合当前集成电路封装产品制造实际,对现有生产流程进行完善是提高生产效率的有效手段。
2.3 结合生产实际,对生产流程进行适当调整
深入了解了生产流程的特点之后,应根据集成电路封装产品的特点对生产流程进行适当调整,调整应重点对工序、人员和交接过程进行改进,使集成电路封装产品能够在整体生产效率上得到全面提高。因此,对生产流程进行适当调整是十分必要的。
3 集成电路封装制造,应制定操作性较强的生产计划
结合集成电路封装制造实际,在集成电路封装制造过程中,科学的生产计划是保障产品生产效率的重要指导文件,只有强化生产计划的编制质量,并提高生产计划的可操作性,才能保证集成电路封装制造取得积极效果。为此,集成电路封装制造应保证生产计划的可操作性,具体应从以下几个方面入手:
(1)生产计划在编制之前,需要对生产流程进行全面深入的了解。鉴于生产计划的重要性,在生产计划编制之前,只有对生产流程进行深入的了解,才能提高生产计划的针对性,保证生产计划的指导性得到全面发挥。因此,生产计划的编制需要以生产实际为前提。
(2)生产计划在编制中,应充分考虑设备及人员生产能力。考虑到生产计划的指导性,在生产计划编制过程中,只有对设备和人员的生产能力有足够的了解,才能保证生产计划的指导性有效发挥。因此,生产计划的编制,应以设备和人员的生产实际为主,切忌盲目编制生产计划。
(3)生产计划在编制中,应做到生产资源合理调配和优化。在生产计划的编制中,生产资源的调配和优化是保证生产计划有效性的关键因素。基于这一认识,生产计划的编制,应立足企业实际,对生产资源和生产流程进行全面了解,实现生产资源的合理调配和优化,满足生产需要。
4 集成电路封装制造,应正确利用分析方法
直接观察法是一种简便有效的分析工具,它可以帮助我们更好的理解现状,发现问题,寻找提高的机会,同时它提供了一种流程分析的方法.一种非常有效的持续改进方法。通过观察设备及操作工的活动,迅速发现生产中存在的问题,利用分析工具弄清楚哪些活动是有价值的,哪些活动是没有价值但必须的,哪些活动是没有价值也没有必要做的,去掉那些没有价值的活动,多做增值的活动,就找到提高的办法了。通常在分析过程中我们会用到一些工具去记录和分析我们所观察到的内容。自上而下的流程图,生产流程图,材料流程图,人员流程图。
通常集成电路封装制造会存在以下问题:
(1)每批料在上料前和卸料后都要进行点数,此时设备会处于等待状态大概十五分钟,大大降低了设备的利用率。
(2)在上料后。设备需要3分钟下载程序,此时操作工处于闲置状态。 所有的料都卸载后,操作工需耍对所有的料进行点数,在点数的这段时间设备处于闲置状态。
(3)在所有的 片测试完毕后,操作工需要把装料的小推车送到下一站点,再进行下一批料的上料,在送料的这段时间设备处于闲置状态。
基于以上问题.我们对操作流程做了调整,以便尽可能的减少设备的等待时间,提高设备的利用率。
5 结论
通过本文的分析可知,集成电路封装的生产效率,是决定集成电路封装制造效果的重要因素,只有全面提高生产效率,才能满足集成电路封装制造需要,为集成电路封装制造提供有力支持。为此,集成电路封装制造要想提高生产效率,就要对现有生产流程进行完善,并制定操作性较强的生产计划,同时还要对设备人员配比进行优化,真正从生产流程和制造现场入手,制定完善的生产计划,保证集成电路封装制造生产效率能够得到全面提高。
参考文献
[1]王戟.SECS/GEM在半导体生产计算机集成制造系统中的应用研究[D].浙江工业大学,2013.
[2]朱虹,钱省三.基于TOC理论的OEE的应用[J].半导体技术,2014.
[3]杨明朗,段天宏,杨晓丹.包装企业作业环境人机工程模糊综合评价研究及实现[J].包装工程,2014.
[4]顾文艳.机械系统人机界面虚拟设计方法的研究[D].中国农业大学,2014.
[5]孔造杰.工业维护管理系统ROM理论与方法研究[D].天津大学,2014.
[6]邵志芳,钱省三.半导体晶圆制造车间层控制的内容及方法[J].半导体技术,2013.
【关键词】IC产业集群升级地方政府作用政策建议
【中图分类号】F291.1 【文献标识码】A 【文章编号】1004-6623(2012)05-0089-04
一、上海IC集群总体概况
上海IC集群,是以IC制造为重点,包括IC设计、封装、测试、原材料、光掩膜,以及模具、设备生产和维护、人才培训等相关配套服务的较为完整的IC地方产业网络。上海IC集群的空间范围,是以张江高科技园区为核心、延伸到金桥出口加工区和外高桥保税区的浦东微电子产业带(核心区),和漕河泾、松江、青浦为扩展区的IC产业集聚区。其中芯片制造业代表企业有中芯国际集成电路制造有限公司、上海宏力半导体制造有限公司和上海华虹NEC电子有限公司;芯片设计企业代表有展讯通讯(上海)有限公司、AMD;封装测试企业代表有安靠和日月光等;设备材料业企业代表有中微半导体设备(深厚)有限公司和盛美半导体设备有限公司。
上海IC集群,在全国占有非常重要的地位。多年销售收入在全国集成电路产业中占据1/3以上的份额(表1)。从产业链各环节看,芯片制造业、设计、封装测试等产业都占有114以上的比重。
公共服务平台建设一直是上海营造产业环境,提高产业高端技术的研发实力、加快高新技术产业化步伐的重要抓手。国家在上海建立了第一个国家级集成电路产业基地、第一家集成电路设计专业孵化器,目前集成电路产业的公共服务平台主要有上海集成电路研发中心、上海集成电路技术与产业促进中心、上海硅知识产权交易中心和上海集成电路测试技术平台。上海集成电路研发中心拥有开放的集成电路工艺技术研发和中试平台。主要业务包括为行业提供技术来源和知识产权保护、工艺研发和验证服务,面向设计企业开发特色工艺模块和人才实训等。上海集成电路测试技术平台则以政府补贴、有偿共享的方式,为集成电路开发和生产企业提供专业测试技术服务。
二、上海IC集群升级面临的主要问题
1.产业规模偏小,盈利能力弱
上海集成电路产业的整体发展还处于初始阶段,突出表现为产业规模小,单体规模小,盈利能力弱。在产业构成上,2009年上海IC设计业销售收入为36.5亿元、制造业为146.7亿元、封测业为183.7亿元,仅为台湾新竹IC的1/25、1/11和1/4。同国际先进集成电路企业比较,上海集成电路企业在规模和盈利能力上均有很大的差距。中芯国际为上海最大的集成电路制造企业,与全球第一的代工厂的台积电相比,销售收入仅为台积电的15%,盈利能力更是相差甚远。中芯国际与新加坡特许半导体销售收入分列全球第三、四位,但前者毛利率仅为后者的1/3。展讯作为上海最大的设计公司,在销售收入、研发投入和盈利能力等方面,与国际著名设计公司都存在较大差距。
2.在全球价值链中处于低端环节
上海IC地方产业网络,是以代工制造环节嵌入生产者驱动的价值链当中,主要从事一般元器件的生产以及整机的加工和组装。设计公司弱小,制造封装测试环节规模最大,近年IC产业3/4以上销售收入来源于制造和封装测试等低价值链环节。由于IC产业是知识技术、资本密集型产业,全球IC产业价值链由研发设计力量强大、制程技术先进,并掌握系统集成核心技术的美、欧、日的IDM(整合元器件制造)公司控制。他们通过制定规制、标准和监督规则、标准的实施,来整合价值链的价值创造活动,最终获取了价值创造的绝大部分。
3.周边地区形成了对上海IC集群的强劲竞争和挑战
除集成电路设计业落后、中高级技术人员不足的制约因素外,商务成本提高也使得上海IC集群面临挑战。虽然集成电路业特别强调企业网络的完善性,但是商务成本(包括土地成本、劳动力成本等)等因素也会显著影响产业链上某些环节的分布。土地作为一种不可再生资源,近年来随着上海经济的发展而价格飞涨,上海的劳动力成本与周边的苏州、无锡相比也逐渐丧失优势。集成电路企业选址时不得不权衡上海的集聚效应带来的成本降低、较高的要素成本与预期利润。一些集成电路制造厂投资项目最终主要因为上海的商务成本过高而选择了上海周边地区,2008及2009年江苏省的销售收入已超过上海市,成为国内集成电路第一大省。近两三年随着武汉新芯12英寸生产线、成都成芯和重庆渝德8英寸生产线建成投产、英特尔成都封装测试工厂投产以及西安应用材料公司技术中心的建设,中西部地区IC产业发展的势头不可小觑。
4.国际硅周期和金融危机对上海IC集群的冲击
2000年以来,随着全球化的推进、跨国公司的产业转移,上海IC集群经历了快速发展阶段后,遭遇了前所未有的国际集成电路行业和金融危机的巨大冲击。从销售收入来看,2001年到2004年翻了一番,2003至2006年年均增长率达到50%。到2007年步入硅周期,全球集成电路产业不景气,上海集成电路产业仅实现销售收入389.5亿元,同比增长2.5%.增速明显放缓。受到国际半导体市场的影响,2008—2009年上海IC产业呈现负增长,2009年销售收入降为402亿元,增长率为一12%,比同期全国IC产业销售收入跌幅还多1个百分点,这说明,上海IC产业遭遇了较全国更大的冲击。
三、推进上海IC集群升级的政策建议
1.科学制定上海IC集群规划,实施价值模块协同网战略
一是要找准上海IC集群在全球和全国价值链中的位置。随着国家实施“国家科技重大专项”和本市加紧实施推进“高新技术产业化”等项目,抓住整机业与集成电路设计业的联动环节,形成从集成电路设计、制造、封装测试到产业化应用的大产业链,确立产业升级路线图,确立上海IC在全国IC设计业及其产业化的领先地位,并推动上海IC集群在全球价值链中的位置不断攀升。
二是调整和优化区域产业布局及定位。科学分析浦东、松江、紫竹园区的产业链优势环节,每个园区确立1~2个优势环节,其余非优势环节给予鼓励政策转移到相应园区,避免过度竞争,资源浪费。张江重点发展集成电路设计和微电子装备;外高桥发展集成电路封装测试;金桥建设国家级通信产业基地,重点集聚和发展移动通讯设备和光机电一体化;康桥发展以华硕公司为标杆企业的手机、个人电脑等消费类终端产品。
三是实施价值模块协同网络(VMCN)战略。模块协同网络是通过加强集群内相关企业间的水平联系,通过协作、创新、竞争全面满足市场的差异化需求,将模块供应商、业务流程与系统管理等结合在一起,形成强大、集成、灵敏的全球化模块化产业集群。上海IC集群可以发挥地方政府的优势,将集群内的大量同类型本地企业,协同组织,建立复杂的水平联系网络,协同集群内中介服务机构、大学和科研机构等区域本地行为主体,组成灵活敏捷、协同互补的动态经济体系,有效实现价值创造过程的网络化整合,并通过企业和不同知识背景、知识结构的不同行为主体的知识交流与碰撞,激发集群创新发生。在有效利用全球网络的同时,积极实施本土化战略,增加网络的密度,拓宽相互学习的界面。
2.加快IC产业整合转型,提升创新能力
对上海IC产业来说,加快整合转型,促进产业集聚和企业做大做强,同样是IC集群升级的紧迫需要。应抓住国家鼓励产业整合重组的机遇,采取强有力的扶持措施,通过政策、资金和市场引导等途径,对产品技术水平高和市场前景好的企业,加快整合IC芯片制造、设计企业,建立自主可控的集成电路产业体系,尽快形成几个上规模的企业,为培育世界级集成电路企业作准备。以IC产业航母,撬动龙头企业的跨国混合网络,加速集群国际知识的获取、吸收、创造性运用,从而为本地IC集群的跨越式升级创造条件。要从自身实际出发,加快技术和产品创新速度。要以《国家中长期科学和技术发展规划纲要》确定的16个国家重大专项重点提升集成电路企业研发创新能力、突破核心技术的机遇,引导本地企业根据国内市场的实际需求加大新产品的开发力度,快速占领新兴市场,增加企业竞争力。
3.争取国家和地方的政策支持,实施积极的人才战略
一是落实2008年财税1号文有关优惠政策,国家规划布局内软件企业涵盖重点集成电路设计企业,将集成电路设计企业认定为“生产型企业”,享受出口退税政策,使其在国内完成设计后顺利投入生产出口到国内外市场,并将集成电路产业优惠政策覆盖半导体产业链诸环节。二是对公司的跨国研发给予财政政策支持,取消“出口”和“进口”的双向税赋成本,规定企业在国外的研发专利可以作为国内企业申报高新技术企业的依据,可以享受相关税收减免的优惠政策。三是鼓励地方企业利用中国本土大学、科研院所等与国外相应机构的“非赢利合作”关系,建立国外有关法律、科技制度的“专家咨询库”,通过“迂回”战略间接嵌入到西方知识网络,从而脱离于跨国公司独立发展奠定基础。
IC产业是知识密集型产业,专业化、高端人才对于IC集群的升级至关重要。可以借鉴国外的发展经验,制定高工资、低(零)个人所得税、股权奖励等优惠的人才吸引政策,吸引海外集成电路设计、制造、管理专家前来工作。可以通过提高员工待遇。加强产业间的网络联动来进一步强化企业网络优势。同时重视技术人才的培养,为基层作业员、技工、工程师提供较好的专业素质培训。这样的措施对设计企业和制造企业都是至关重要的。当然,要从根本上解决上海IC人才问题,地方政府必须制定积极人才政策,将人才待遇与户籍制度、住房、社会保障、配偶工作、子女教育与就业统筹考虑,使人才引得来、留得住。
4.充分发挥协会、企业管理咨询服务平台职能
建议政府及其相关部门“抓大放小”,将具体事务性职能交由协会办理。在建立产业同盟方面,建议进一步发挥好行业协会的作用,促进和推动lC产业的协同发展。可以授权协会实施或参与产业联盟的培育、建设和运作,构建公共服务平台,通过协会的推进来形成产学研结合的运行机制,发挥协会在行业管理中的主体作用。可以参考香港政府和香港工程师协会的做法,以政府(工程类)公务员的要求对协会的会员标准进行认定。在提升企业自主创新能力方面,政府和市、区两级行业协会结合起来,具体放手让协会去做。提供孵化楼的同时,为中小企业提供更加优质的创业服务;打造风险投资机构积聚地,重点培养有自主创新的重点企业。通过行业协会,促成IC产业的产业联盟。
一、充分认识加快发展集成电路产业的重要性
集成电路产业对于现代经济和社会发展具有高倍增性和关联度。集成电路技术及其产业的发展,可以推动消费类电子工业、计算机工业、通信工业以及相关产业的发展,集成电路芯片作为传统产业智能化改造的核心,对于提升整体工业水平和推动国民经济与社会信息化发展意义重大。此外,微电子技术及其相关的微细加工技术与机械学、光学、生物学相结合,还能衍生出新的技术和产业。集成电路技术及其产业的发展已成为一个国家和地区调整产业结构、促进产业升级、转变增长方式、改善资源环境、增强竞争优势,带动相关产业和领域跨越式发展的战略性产业。
*省资源环境良好,集成电路设计和原材料生产具有比较优势,具有一批专业从事集成电路设计和原材料生产的企业及水平较高的专业人才队伍。*省消费类电子工业、计算机工业、通信工业以及利用信息技术改造传统产业和国民经济与社会信息化的发展为集成电路产业的发展提供了现实需求的空间。各级、各部门要高度重视集成电路产业的发展,有基础有条件的地区要充分发挥地域优势、资源优势,加强规划,因势利导,积极组织和推动集成电路产业发展,加快招商引资步伐。省政府有关部门要切实落实国家和省扶持集成电路产业发展的各项政策,积极推动和支持*省集成电路产业的发展。
二、发展思路和原则
(一)发展思路。根据*省集成电路产业发展的基础,当前以发展集成电路设计和原材料生产为重点,建成国内重要的集成电路设计和原材料生产基地。以内引外,促进外部资金、技术、人才和芯片加工、封装、测试项目的进入,建立集成电路生产基地。
1.大力发展集成电路设计。充分发挥*省高校、科研单位、企业集成电路设计的基础优势,加快集成电路设计企业法人资格建立和集成电路设计企业资格认证的步伐,与信息产业和其他工业领域及国民经济与社会信息化发展相结合,促进科研、生产、应用联动,建立科研、生产、应用、服务联合体,形成有利于集成电路设计企业成长和为企业生产发展服务的体制和机制,促进一批已具备一定基础的集成电路设计企业尽快成长起来。进一步建立和完善有利于集成电路产业发展的政策环境,构筑有利于集成电路产业发展的支撑体系和服务体系,加强与海内外的合作与交流,加快人才培养和引进,加大对集成电路设计中心、公共技术平台、服务平台、人才交流培训平台建设的投入,重点培植3—5家集成电路设计中心,使之成为国内乃至国际有影响力的企业。加强人才、技术、资金、企业的引进,形成一大批集成电路设计企业和人才队伍。密切跟踪国际集成电路发展的新趋势,大力发展和应用SOC技术、IP核技术,不断提高自主创新能力,在消费类电子、通信、计算机、工业控制、汽车电子和其他应用电子产品领域形成发展优势。
2.加快发展集成电路材料等支撑产业。以当前*省集成电路材料生产企业为基础,通过基础设施建设、技术改造、引进技术消化吸收再创新、合资合作和引导传统产业向集成电路材料生产转移,进一步壮大产业规模,扩大产品系列,增添新的产品品种,提高产品档次。通过加快企业技术中心建设,不断提高自主创新能力;通过拉长和完善产业链,积极发展高纯水气制备、封装材料等上下游产品,提高配套能力;鼓励半导体和集成电路专用设备仪器产业的发展。培养多个在国内市场占有率第一的自主品牌,扩大出口能力,把*省建设成为围绕以集成电路用金丝、硅铝丝、电路板用铜箔和覆铜板、柔性镀铜板、金属膜基板、电子陶瓷基板、集成电路框架和插座、硅晶体材料的研发和生产为主的集成电路支撑产业基地。
3.鼓励发展集成电路加工产业。大力招商引资,通过集成电路设计和原材料生产的发展,促进省外、海外集成电路芯片制造、封装和测试业向*省的转移,推动*省集成电路芯片制造、封装和测试产业的发展。
(二)发展原则。
1.政府推动原则。充分发挥各级政府在统筹规划、宏观调控、资源组织、政策扶持、市场环境建设等方面的作用,充分发挥社会各方面的力量,推动集成电路产业发展。
2.科研、生产、应用、服务联动原则。建立科研、生产、应用、服务一体化体系,促进集成电路设计和最终产品相结合,集成电路设计和设计服务相结合,公共平台建设和企业发展相结合,设计公司之间相结合,人才培训和设计企业需求相结合。重点支持共性技术平台、服务平台、人才培训平台建设和科研、生产、应用一体化项目研发。
3.企业主体化原则。深化体制改革,加快集成电路设计中心认证,推动集成电路设计公司(中心)建设,建立符合国家扶持集成电路发展政策和要求的以企业为主体、自主经营、自负盈亏、自主创新、自*发展完善的集成电路产业发展体制和机制。
4.引进消化吸收与自主创新相结合原则。加强与海内外集成电路行业企业、人才的交流合作,创造适合集成电路产业发展的政策环境,大力引进资金、技术、人才,加快消化吸收,形成产业的自主创新能力,尽快缩短与发达国家和先进省市的差距。
5.有所为,有所不为原则。发挥*省优势,重点发展集成电路设计、电路板设计制造和原材料生产,与生产应用相结合,聚集有限力量,聚焦可行领域,发挥基础特长,形成专业优势。
三、发展重点和目标
(一)发展重点。整合资源,集中政府和社会力量,建立公共和开放的集成电路设计技术服务平台、行业协作服务平台和人才交流培训平台。重点扶持建设以海尔、海信、浪潮、*大学、哈工大威海国际微电子中心、滨州芯科等在集成电路设计领域具有基础和优势的集成电路设计中心,建设青岛、济南集成电路设计基地,加快有关促进集成电路产业发展的配套政策、措施的制定,重点在以下领域实现突破。
1.集成电路设计业。以消费类电子、通信、计算机、工业控制、汽车电子、信息安全和其他应用电子产品领域为重点,以整机和系统应用带动*省集成电路、电路板设计业的发展,培育一批具有自主创新能力的集成电路设计企业,开发一批具有自主知识产权的高水平的集成电路产品。
(1)重点开展SOC设计方法学理论和设计技术的研究,发挥其先进的整机设计和产业化能力,大力发展税控收款机等嵌入式终端产品的SOC芯片,努力达到SOC芯片规模化生产能力。开发采用先进技术的SOC芯片,应用于各类行业终端产品。
(2)强化IP核开发标准、评测等技术的研究,积极发挥IP核复用技术的优势,以市场为导向,重点研发MCU类、总线类、接口类和低功耗嵌入式存储器(SRAM)类等市场急需的IP核技术,加速技术向产品的转化。
(3)顺应数字音视频系统的变革,以数字音视频解码芯片和视频处理芯片为基础,突破一批音视频处理技术,提高*国电视整机等消费类电子企业的技术水平和核心竞争力。
(4)集中力量开展大规模通信、网络、信息安全等专用集成电路的研究与设计,力争取得突破性成果。
(5)重点发展广泛应用于白色家电、小家电、黑色家电、水电气三表、汽车电子等领域的芯片设计,在应用电子产品芯片设计领域形成优势。
(6)发挥*省在工业控制领域的综合技术、人才力量及芯片研发软硬件资源等方面的优势,重点发展部分工业控制领域的RISC、CISC两种架构的芯片设计,并根据市场需求及时研发多种控制类芯片产品,形成一定优势。
2.集成电路材料等支撑产业。充分利用*省现有集成电路材料生产企业的基础条件,加快发展集成电路材料产业。重点发展集成电路用金丝、硅铝丝、引线框架、插座等产品,同时注重铜箔、覆铜板、电子陶瓷基片、硅晶体材料及其深加工等产品的发展,形成国内重要的集成电路材料研发和生产加工出口基地。支持发展集成电路相关支撑产业,形成上下游配套完善的集成电路产业链。
(1)集成电路用金丝、硅铝丝。扩大大规模集成电路用金丝、硅铝丝的生产规模,力争到2010年占国内市场份额80%以上。
(2)硅单晶、硅多晶材料。到2010年,3-6英寸硅单晶片由现在的年产600万片发展到1000万片;单晶棒由目前的年产100吨发展到200吨。支持发展高品质集成电路用多晶硅材料,填补省内空白,至2010年发展到年产3000吨。
(3)集成电路引线框架。到2010年,集成电路引线框架生产能力由目前的年产20亿只提高到年产100亿只。
(4)电子陶瓷基板。通过技改和吸引外资等措施,力争到2010年达到陶瓷覆铜板年产160万块、陶瓷基片年产30万平米的能力。
(5)铜箔、覆铜板。到2010年,覆铜板由目前的年产570万张发展到800万张,铜箔由目前的年产8500吨发展到10000吨。
(6)相关支撑产业。通过引进技术和产学研结合等多种形式,积极发展集成电路专用设备、环氧树脂等塑封材料、柔性镀铜板和金属膜等基材、高纯水气制备等相关产业。
3.加快大规模、大尺寸集成电路芯片加工和有关集成电路封装、测试企业的引进。
(二)发展目标。经过“*”期间的发展,基本建立和完善有利于*省集成电路产业发展的政策环境、支撑体系和服务体系,建成20-30家集成电路设计中心、2个集成电路设计基地,形成一大批集成电路设计企业、配套企业、咨询服务企业,争取引进3—5家集成电路芯片制造企业。政府支持集成电路产业发展的能力进一步增强,社会融资能力进一步提高,对外吸引和接纳人才、技术、资金的能力进一步提高,集成电路设计、制造对促进*省信息产业发展、传统产业改造和提升国民经济与社会信息化水平发挥更大作用,并成为*省信息产业发展和综合竞争力提升的重要支撑。促进*省集成电路材料产业做大做强,使其成为国内重要的产业基地。
四、主要措施和政策
(一)加强政府的组织和引导。制定*省集成电路产业发展中长期发展规划,实施集成电路产业发展年度计划,《*省支持和鼓励集成电路产业发展产品指导目录》,引导产品研发和资金投向。各地要加强本地集成电路产业发展环境建设,结合本地实际制定有利于集成电路产业发展和人才、资金、技术进入的政策措施。各有关部门要加强配合,制定相关配套措施,形成促进集成电路产业发展的合力。参照财政部、信息产业部、国家发改委《集成电路产业研究与开发专项资金管理暂行办法》,结合*省信息产业发展专项资金的使用,对集成电路产业发展予以支持。具体办法由省信息产业厅会同省财政厅等有关部门制定。
(二)加强集成电路设计公司(中心)认证工作。推动体制改革和产权改革,鼓励科技人员在企业兼职和创办企业,通过政策导向促进集成电路设计公司(中心)独立法人资格的建立。按照国家《集成电路设计企业及产品认定暂行管理办法》的有关规定,加强对*省集成电路产品及集成电路企业认定工作。
(三)加强人才引进与培养。加强对集成电路人才的培养和引进工作,鼓励留学回国人员和外地优秀人才到*投资发展和从事技术创新工作,重点引进在国内外集成电路大企业有工作经历、既掌握整机系统设计又懂集成电路设计技术的高层次专业人才。对具有普通高校大学本科以上学历的外省籍集成电路专业毕业生来*省就业的,可实行先落户后就业政策,对具有中级以上职称的集成电路专业人才来*省工作的,有关部门要优先为其办理相关人事和落户手续。要加强集成电路产业人才培养,建立多层次的人才培养渠道,加强对企业现有工程技术人员的再培训。在政策和待遇上加大对专业人才的倾斜,鼓励国内外集成电路专业人才到*发展,建立起培养并留住人才的新机制。
(四)落实各项优惠政策。各级、各部门要切实落实《关于印发鼓励软件产业和集成电路产业发展若干政策的通知》及各项优惠政策,将集成电路设计、生产制造和原材料生产纳入各自的科研、新产品开发、重点技术攻关计划及技术中心、重点实验室建设计划,并给予优先支持和安排。集成电路设计企业适用软件企业的有关政策,集成电路设计产品适用软件产品的有关优惠政策,其知识产权受法律保护。对于批准建设的集成电路项目在建设期间所发生的贷款,省政府给予贷款利息补贴。按照建设期间实际发生的贷款利率补贴1.5个百分点,贴息时间不超过3年;在政府引导区域内建设的,贷款利息补贴可提高至2个百分点。
2013年3月15日上午,中关村集成电路产业联盟在北京成立。该联盟由中关村集成电路材料、设备、制造、设计、封装、测试、公共服务平台、软件和系统集成等产业链上下游30多家企业共同发起,是北京市首个覆盖集成电路全产业链的产业联盟。该联盟的成立标志着中关村将打造产业链各环节良性互动的集成电路创新生态圈。
中关村形成集成电路产业链
从2008年至今短短几年时间,一些国产材料和大型装备正在逐渐进入集成电路生产线。从集成电路设备制造、工艺,到芯片设计、制造,中关村示范区已经构建起了一条产业链。
“在这里,既有北方微电子、七星华创等提供集成电路生产设备的企业,也有北京君正、兆易创新等芯片设计企业,还有中芯国际这样大型集成电路制造企业。一条集成电路产业链就这样初步形成了。”中关村有关负责人说。
目前,中关村已有集成电路设计企业近百家,是全国芯片设计力量最强的地区之一,超过1亿元收入规模的企业超过20家,上市企业2家。中关村集成电路设计环节在新一代移动通信终端与网络、数字电视及智能电视、行业用智能卡及信息安全、高性能通用核心芯片、北斗导航芯片以及物联网等新兴领域具有雄厚的技术和产业基础。CPU、嵌入式CPU、存储器芯片、TD-LTE终端基带芯片、可编程逻辑器件、模拟及数模混合电路芯片等均处于国内领先,并填补了我国在这些领域的空白。
一批高等院校和科研单位长期从事微电子技术和半导体工艺研究,并一直处于全国领先地位。2011年中关村集成电路制造业的销售额占国内比例和年增长率均远超全国平均水平。中关村拥有集成电路生产线近10条,月产能超过10万片,且中芯国际(北京)是目前国内最具优势的芯片代工企业,已实现65nm主流工艺的大规模量产,且二期工程的顺利开工建设将为中关村集成电路设计、封测、装备、材料等相关企业提供更为便利的开发验证平台,带动和支撑全产业链规模化发展。
中关村集成电路装备、材料在国内处于领先地位,刻蚀机、氧化炉、离子注入机、光刻胶、靶材等多项科研成果打破了我国在该领域的空白,并进入产线验证。此外,中关村部分集成电路装备和材料也已率先在全国投入规模应用。
目前联盟已汇聚了中关村集成电路产业链各环节有影响力的企业:北京集成电路设计园是全国规模最大、功能齐全、服务配套的集成电路设计产业化基地和集成电路设计企业孵化基地之一;北京君正研发生产了国内首款应用于移动领域的非ARM架构双核移动CPU芯片,这也是国产CPU在移动领域的首款双核CPU芯片;兆易创新在2011年全球SPI出货市场占有率达到10.24%,全球排名第三,正逐步建立世界级存储器设计公司的市场地位;京微雅格作为国内首家自主研发生产FPGA的集成电路设计企业,去年又再次推出全新架构FPGA器件,实现了同类器件所不具备的集成度、高性能和低成本;北方微电子、七星华创、中科信等企业的集成电路高端装备均打破国内在该领域内的空白,引领了国内半导体装备的研发进程;有研半导体是国内12英寸硅单晶抛光片及外延片的重点厂商,并承担多个国家重大科技专项的研发。
集成电路生态圈初具雏形
中关村集成电路产业联盟旨在搭建开放式合作平台,促进中关村集成电路产业集群跨越式发展。联盟的成立,标志着中关村集成电路产业已建立了产业链各环节的良性互动体系,一个活跃、具有持续竞争实力的创新生态圈初具雏形。
联盟的总体目标是充分发挥中芯国际等龙头企业的平台作用,开展广泛合作,带动上下游企业、高校院所协同创新,全力打造具有国际影响力的集成电路产业集群。
关键词:摩尔定律;晶体管;电子信息产业
中图分类号:TN-9 文献标志码:A 文章编号:1674-9324(2014)23-0170-02
一、引言
摩尔定律是由英特尔(Intel)创始人之一戈登・摩尔(Gordon Moore)在搜集1959年至1965年集成电路上晶体管数量的数据的基础上,于1965年4月提出的[1]。即当价格不变时,集成电路上可容纳的晶体管数目,约每隔18个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。戈登・摩尔提出摩尔定律后的几年内,世界多数半导体公司按照这个定律制定了产品更新策略。1969年,摩尔和朋友建立英特尔公司并制定电子信息产业标准。此后,英特尔公司生产的大量产品都验证了摩尔定律的准确性。直到目前,全球仍有多数知名半导体制造公司一直遵循摩尔定律进行产品生产,如英特尔、高通、AMD、ST等[2]。
摩尔定律核心是不断增加的晶体管的数目,以及更强大的性能和更高的集成度,这也会带来一系列问题,如设计者需要使用各种方法来解决高温问题[3]。但这却能促进制作工艺的提升和集成电路中晶体管数目的增加。一方面,更强大的性能来源于更多晶体管数目;另一方面,制作工艺的更新也促进性能的提升。很多制造集成电路的工艺被英特尔公司使用,比如180nm,90nm,65nm,45nm,32nm等,来也将有14nm和10nm[4]。其他半导体制造公司也有各自的制作工艺,如台积电公司等。
基于以上问题和相关介绍,从1965年起,几乎所有的半导体厂商都遵循了摩尔定律。每一次进步都使得集成电路上能容纳更多的晶体管,并且带来更低廉的价格。然而,在摩尔定律提出的40年以来,也出现了一些问题,一度让人们怀疑摩尔定律是否会被终结[5-6]。但是摩尔定律一直发展到了今天,在未来几年内也会一直有效。
二、摩尔定律与晶体管数目
1.晶体管数目增加的影响。摩尔定律的经典结论是,当价格不变时,集成电路上可容纳的晶体管数目,约每隔18个月增加一倍,性能也提升一倍。不断增加的晶体管数量意味着更强大的性能,包括更多的功能和更快的运行速度。集成电路功能可以不断提升。例如,原来的8051单片机没有集成片上模数转换,而现在的单片机如集成Cortex-M3内核的STM32内部集成了模数转换模块。这些模块的增加给工程设计带来很多便利,在印刷电路板上不再需要额外的集成电路,并且可以提高传感器的精确度,在AMD的Tahiti XT中集成了4,312,711,873个三极管[7]。最近几年,提出了一个新的概念――片上系统(Soc)。片上系统的集成电路可以拥有更强大的系统功能、更低廉的价格以及更低的耗电量和更小的供电电压。同时,更多的晶体管意味着更快的运行速度。目前最大的个人CPU I7-3970X拥有22.7亿个晶体管[8],而上一代最大的个人CPU I7-990X拥有10.17亿个晶体管[9]。目前最大个人电脑的核心部件如表1所示。
2.晶体管数目对温度的影响。工程设计人员希望通过增加单位面积里晶体管的数量来提高性能,并希望通过更先进的制造工艺来控制温度。所以新型集成电路的温度并不会比之前集成电路的低。如今,设计者也可以使用其他途径来解决温度问题。多数电脑使用风扇或者水冷,甚至液氮来冷却。为了更有效率地对集成电路进行冷却,冷却技术需要不断地进行改进和提高。现今集成电路冷却业是一个大产业并且不断发展,世界上有很多专注于此的公司。
三、摩尔定律与价格
当价格不变时,集成电路上可容纳的晶体管数目,约每隔18个月增加一倍,性能也将提升一倍。因为集成电路的价格主要来源于制作工艺提升的费用,更先进的制作设备需要更先进的生产技术和工厂来支持,而集成电路原料的价格可以忽略。英特尔公司在设计集成电路之外,也建立了先进的工厂来保证制造工艺。建造工厂需要花费大量的物理与财力,所以需要通过增加产品的数量并增加工厂的工作年限来减少生产集成电路的平均费用。台积电是一个非常著名的集成电路制造代工公司,它使用了另一种方法来减少生产集成电路的平均费用。NVDIA,AMD,Qualcomm以及一些其他的集成电路设计公司都是台积电的客户。通过帮助大量的集成电路设计公司生产集成电路,台积电可以生产出大量的产品来提供建设厂房所需要的花费。第一台计算机是为了计算炮弹弹道而生产的,所以拥有足够的军费支持。而工业中费用的问题不能忽视,所以集成电路变得越来越廉价,嵌入式系统也被运用在工业控制中。因为嵌入式系统低廉的价格,除了工业控制之外,其他很多领域也在使用单集成电路微处理器。例如智能家居、智能手机、无人飞机等等。在各个领域中广泛运用的电子设备是使我们的生活能变得更智能更现代的原因之一。在摩尔提出摩尔定律的1965年,这些智能化生活都是不可想象的。
四、摩尔定律未来发展趋势
1965年提出的摩尔定律对世界来说是一个重大事件。而现在,我们将怎样评价它48年来对世界的影响?不管怎样,摩尔定律巨大的影响是不可否认的。在摩尔的眼里,摩尔定律所揭示的速度是不可能永远持续下去的[3]。一些文章认为摩尔定律将会因为漏电流和高温被终结[5]。一些其他的观点则认为导致摩尔定律终结的原因是制造商不能收回研发和建造工厂的巨大成本[6]。一个半导体工业协会出版的名为“未来技术发展蓝图”的文件指出,10nm级的工艺是关键,因为以往的机械制作工艺将不能达到其制造的所需要求[6]。关于摩尔定律的继续发展和未来影响,我们有以下看法。
第一,首先是制造工艺上的一些问题。依照目前的发展趋势,有两个方面的问题越来越明显,就是关于漏电流和高温。这些问题需要通过制造工艺的进步来解决。摩尔曾经指出漏电流将会限制摩尔定律发展,当晶体管的尺寸不断减小,漏电流的影响将使得功耗增大。如果设计者不断减小晶体管的尺寸,电流将变得越来越大并烧毁晶体管。
得益于3D晶体管技术,这个由于漏电流产生的问题暂时得到了解决,集成电路还可以工作在更低的驱动电压下。关于温度,由于更先进的制造工艺,在保持同样晶体管数量和性能下,新型号的集成电路的温度总会低于旧型号的集成电路。在奔腾4时代,英特尔不能很好地解决高温的问题。但得益于多核技术,英特尔推出了名为酷睿的产品来解决这个问题。现在,很多移动平台集成电路供应商都使用多核技术来解决高温的问题。同时,为了控制功耗在100W以下,一个叫ARM的著名集成电路公司推出了一个名为big.little的新异构计算解决方案,这个架构将功耗高、性能强的处理器,与功耗低、性能弱的处理器封装在一起。并希望借此能提高处理器的效率,产生能达到高性能但功耗低的处理器。
各种新出现的技术问题将导致发展放缓。首先在于集成电路的制造方面,比如当集成电路达到10nm数量级时,光学加工手段将会取代机械加工手段。英特尔使用疝灯产生的远紫外线来雕刻集成电路,IBM使用X光,这将可能解决工艺尺寸的问题,比如制造14nm尺寸的芯片。如果新的制造手段将被发现,将继续提高集成电路性能。再看看其他方面的限制,比如耗电问题。目前芯片性能的进步很快,但同时也会增加耗电量。这些都可能是集成电路发展的一个不可逾越的瓶颈,导致摩尔定律不再适用,电子信息产业不再迅速发展。
而对于工艺的更新速度,可以参考英特尔的策略,根据英特尔提出的“Tick-Tock”战略,在接下来的一年,将会有7nm和5nm制作工艺的集成电路推出。当“Tick”年来到,集成电路的制程将会更新;而“Tock”年到来时,集成电路的微处理器架构将会更新[9]。
第二,财务因素是每个公司发展的决定性因素。一些专家认为公司无法负担起建设新厂房所需要的大量资金。新的集成电路所带来的利润不足以让公司支付这些费用并盈利,集成电路的更新速度将会放缓。目前,英特尔正在以色列建设10nm生产工艺的工厂。在电子信息产业发展早期,硬件能力的增长跟不上软件需求发展的速度(软件设计总是需要更高性能的硬件),所以对硬件的性能提升有很大的需求,每次硬件的增长都被快速地应用在软件上。而现在软件的复杂性增长已经趋于平缓,而不是继续高速复杂化。比如新一代的Windows 8操作系统对硬件的要求甚至低于老一代操作系统Windows 7[8]。一直致力于提高芯片性能的英特尔也推出了功耗更低和超低电压CPU,由英特尔极力推广的超极本逐渐成为了未来笔记本的发展方向。另一方面因为大多数用户并不需要如此强劲的性能,而更加看重用户体验,加上购买高性能处理器的花费太高,导致技术进步的速度受到限制。比如只有少部分中国人使用昂贵的I7处理器。如果不能有效地控制成本,并且没有大量的市场需求,集成电路性能提高的速度将大大放缓。
第三,全新的制造材料将改变集成电路的发展方向。在晶体管发明以前,没有人能预料到今天电子信息产业的繁荣。也许我们能使用新的材料或者技术来改变现状。我们可以考虑使用其他的半导体元素代替硅元素制作晶体管,比如元素周期表上第三和第五族的元素。利用它们不同的属性,提高芯片的性能。但这可能仅仅是权宜之计,因为它们可能也会遇到与硅元素相同的问题。石墨烯也是一个很有希望的晶体管材料。但是它也有很多问题,比如没有足够的带隙,人们对它的了解也不足够充分。这些材料和技术目前都处于探索之中,未来也许也会有新技术出现,并带来革命性的改变。如果将来的某个发明,改变了集成电路性能提升的方式,或者产生了新的计算机技术,取代了现有的集成电路工作原理,那么摩尔定律可能将不再适用。
五、结论
由本文的研究分析可以得出,目前集成电路的发展还会遵循摩尔定律,并伴随电子信息产业的飞速发展。而若干年以后,集成电路和电子信息产业的发展速度将会放缓。此外,集成电路性能提升的方式也可能会发生改变。
目前,电子信息产业发展飞速,如同大多数工业产业一样,由刚刚兴起时的发展困难到随后的一个高速发展时期,然后又逐渐趋向平稳。在电子信息产业中,这种现象可能出现在五年后,也可能在十年或者二十年以后。但这一天一定会到来,没有人可以打破这个基本的自然规律。在未来几年内,摩尔定律还将适用,电子信息产业仍将快速蓬勃发展。在未来的某天,摩尔定律将失去它的价值,电子信息产业也将会以其他的形式和方向继续发展。
参考文献:
[1]Nam Sung Kim,Leakage current:Moore’s Law Meets Static Power[J].the IEEE Computer Society. December 2003:68-75.
[2]陶然.守望摩尔定律[J].电子产品世界,2010,(6):2-4.
[3]沈建苗.摩尔定律是否有未来[J].微电脑世界.2011,(9):12-15.
[4]Desktop 3rd Generation Intel Core Processor Family,Desktop Intel Pentium Processor Family,and Desktop Intel Celeron Processor Family[EB].http:///content/dam/www/public/us/en/documents/datasheets/3rd-gen-core-desktop-vol-2-datasheet.pdf,January 2013.
[5]齐书阳.摩尔定律会终结吗[J].电脑爱好者,2013,(8).
[6]赵佶.摩尔定律何时会失效[J].半导体信息,2012,(5):4-8.
[7]Mike Mantor. White Paper|AMD GRAPHICS CORES NEXT (GCN) ARCHITECTURE[EB].http:///cn/Documents/GCN_Architecture_whitepaper.pdf,August,28,2012.
[8]Intel Core i7-900 Desktop Processor Extreme Edition Series and Intel Core i7-900 Desktop Processor Series on 32-nm Process[EB]. http:///content/dam/www/public/us/en/documents/datasheets/core-i7-900-ee-and-desktop-processor-series-datasheet-vol-1.pdf,February,2010.
集成电路是换代节奏快、技术含量高的产品。从当今国际市场格局来看,集成电路企业之间在知识产权主导权上斗争激烈,重要集成电路产品全球产业组织呈现出跨国公司(准)寡头垄断的特征,集成电路跨国公司销售、制造、研局朝全球化方向发展。有鉴于此,当前集成电路是中国的“短腿”产业。
(一)产品研究开发至关重要。
集成电路产品研发和换代周期较短。按照摩尔定律,集成芯片上所集成的电路数目,微处理器的性能,每隔一个周期就翻一番;可比单位货币所能购买到的电脑性能,每隔一个周期就翻两番。为什么集成电路产品研发换代周期如此之短?因为芯片制造商要以最短时间,尽其所能,开发新技术,将技术标准更新换代,以实现产品性价比迅速优化,并大规模锁定消费者群体,乃至防止自身技术标准锁定的消费者、使用者群体流失到竞争厂商那儿去。由此,集成电路制造商要生存和发展,必须从销售收入之中,高比率地支出研发预算,建设研发队伍,开展研发行动。研发主要目标在于,形成具有性价比优势的技术标准和产品规格。以全球优势芯片制造商英特尔为例,近几年其研发支出占销售收入的比重一直高达13-15%,而同期相对比,即使是研发强度较高的汽车和航空器产业,其优势跨国公司的研发支出占销售收入的比重也都在5%上下。
(二)知识产权主导权上斗争激烈。
研发投入和行动是为了获取创新成果。集成电路厂商之间,在研发成果的认定、建设、保护方面,常年都是剑张弩拔,斗争异常剧烈。首先,研发成果要及时在产品市场销售地申请登记为专利、商标等知识产权;这种登记行动在步调上要早于国际市场开拓。再以英特尔公司为例,美国专利和商标局的数据显示,近几年来英特尔所获该局授权专利数目一直排在前十位,2007年获得授权数1865项,在授权巨头中排第五。其次是技术标准的认定和推广。一项技术标准的权益的表现就是一个技术专利群体。从全球个人和办公用计算机市场整体格局看,英特尔和微软拥有所谓w英特尔事实标准;为巩固这一标准的垄断地位和保持周边技术标准的优势地位,英特尔可谓不遗余力。英特尔每隔一个季度,要在美国、中国、欧洲等世界主要大市场区,选择商务中心城市,举办所谓英特尔信息技术峰会;峰会的一项重要工作就是推介英特尔的技术标准。近年推出的计算机技术标准涵盖到系统总线、PC架构、多媒体网络、无线通讯、数字家电等方面。三是知识产权的诉讼与反诉讼。作为PC机技术标准主导者,英特尔和微软两家公司几乎每年都发生诉讼与反诉讼事件,诉讼涉及的核心问题是知识产权侵权和市场垄断。近年来,就法院正式立案案件而言,英特尔的诉讼或反诉伙伴涉及美国Broadcom、超微、美国消费者群体、Transmeta、Intergraph、中国台湾威盛、中国深圳东进等;至于从2005年开始,美国AMD公司诉讼英特尔更是表明,AMD公司要正面挑战英特尔在PC机CPU芯片供应上占据多年的绝对垄断地位。
(三)重要集成电路产品全球产业组织呈现出跨国公司(准)寡头垄断的特征。
集成电路厂商要做到大规模锁定消费者群体,除在研发投入和节奏上要占优势和先机之外,还需要尽可能地将产品市场国际化。因为只有以高度国际化的市场为基础,企业才能在产品生产和销售上取得规模经济优势,才能摊薄昂贵的研发成本。全球产品市场规模的扩张和研发强度的加大又是相辅相成的。于是,对集成电路等产业来说,若以全球市场为背景,我们会看到这样一幅图景:一旦某个企业在市场份额上初占优势,它在研究开发经费的投入,在技术标准的推出和拥有,在锁定消费者步伐等方面,都会较长时间处于优势或领先的地位。全球市场份额也会朝向寡头集中,直至另一个后起之秀再凭借某些条件,逐步突破原有优势企业的寡头地位,并推动市场份额重组,乃至再次形成新的销售市场朝向单寡头或少数寡头集中的格局特征。当前集成电路产品全球的销售市场和产业组织格局充分说明这一点。据Gartner公司调查,2007年全球前十大公司占全球商业芯片销售收入的53.1%。需注意,这仅是关于全部各类销售收入的集中度数据。集成电路(芯片)是中间产品;对某一具体最终产品所使用某种具体芯片而言,往往由单个或为数不多的若干芯片制造商处于市场垄断地位。例如,对个人和办公用微型计算机最终产品来说,因所谓WINTEL事实技术标准对既定消费者群体的锁定,至少在PC机的CPU芯片供应上,很多年来,英特尔公司实际上一直处于单寡头垄断地位。当然,近几年这种单寡头绝对垄断地位也一定程度受到AMD公司的冲击。至于其他具体种类芯片,也以单寡头或少数寡头垄断供应居多。
(四)跨国公司销售、制造、研局朝全球化方向发展。
2007年全球集成电路销售收入最多的十家公司分别是英特尔,三星电子、东芝、德州仪器、意法半导体、英飞凌、现代半导体、瑞萨、恩智浦和日本电气。十大巨头均为跨国公司,均以全球市场为背景,进行制造、销售、研发基地配置,以尽可能地取得行业竞争优势。以英特尔公司为例。英特尔在50个国家开设约300个分支机构,总公司对分支构架的控制主要采取控股、内部化方式,全球化布局战略在销售、制造、研发等方面都得到充分体现。
从销售收入地域格局来看,销售地域格局的多元化和新销售地域增长点的形成是支撑英特尔销售收入迅猛上升的主要因素。1997至2007年间,英特尔公司美洲销售份额从44%0持续下降至20%;欧洲份额从27%持续下降至19%;亚洲份额从19%持续上升至51%。
从制造过程来看,英特尔在全球范围整合生产体系,将高附加值部分(硅片生产与加工)留在美国,将制造设施放在以色列,将劳动密集型业务放在马来西亚、爱尔兰、菲律宾、巴巴多斯、中国和哥斯达黎加等地。随着中国市场重要性上升,英特尔在建设原上海测试和封装工厂的基础上,先后于2004年、2007年再在中国成都、大连建设封装测试和生产制造工厂。
从研局来看,在芯片设计和测试方面,美国、印度、以色列、中国等重要区域市场支点和人力资源丰富区是公司布局重点,其三大模块化通信平台、解决方案中心、研发中心分别布设在美国、中国和比利时。20世纪90年代以来,英特尔的全球架构整合行动一定程度影响和引领着其他芯片商。其中,一些公司对海外机构进行了重组。
(五)集成电路是中国的“短腿”产业。
我国集成电路的设计和制造还处在起步发展阶段,远不具备强势国际分工地位。这在多方面都有所体现。首先,集成电路是中国大额逆差产业。尽管近年我国货物贸易实现巨额贸易顺差,但顺差、逆差产业的分化明显。顺差主要集中在纺织、家电等产业上,而集成电路、矿产、塑料等发生大额逆差。2005年和2006年集成电路是我国头号逆差产品,其贸易逆差总额分别高达856亿美元和676亿美元,相当于当年全部货物贸易顺差的48.2%和66.4%。其次,我国各种专有权连年发生大额贸易逆差。2006年和2007年,通过国际收支反映出来的中国“专有权利使用费和特许费”贸易项逆差分别为64.3亿美元和78.5亿美元,分别相当于当年服务贸易国际收支逆差总额的72.8%和99.4%。如前阐述,集成电路产业要发展,需要以企业拥有强势知识产权所有权为基础,而专有权贸易项大额逆差实际上和集成电路设计产业处在幼稚期密切相关。还有,目前我国集成电路设计和制造企业的实际情况也说明了这一点。2007年中国內地销售收入排名第一的集成电路设计企业——华大集成电路设计集团有限公司销售收入总额大致相当于同年英特尔销售额的5%。在排名前几位的芯片设计制造商中,业务种类主要集中在身份管理、消费结算、通信、MPi、多媒体等低端芯片上面。
二、中国本土企业的借鉴经验
目前,在智能卡,固定和无线网络、消费电子、家电所用芯片,以及PC机芯片等产品领域,我国已经有若干集成电路设计制造企业,自主品牌业务迅速增长。境内自主品牌企业的成长经历初步表明,国内大市场能够为企业成长提供比较优势,知识产权建设是企业可持续成长的推动力,企业应该高度重视知识产权贸易纠纷应对,目前中国集成电路企业“走出去”尚不普遍。
(一)若干中低端集成电路设计企业迅速成长。
根据来自中国半导体行业协会的数据,中国内地集成电路设计产业销售收入从2002年的21.6亿元增长到2006年的186亿元,年均增长71.3%。位居2007年销售额前五位的企业分别是中国华大集成电路、深圳海思半导体、上海展讯通信、大唐微电子、珠海炬力集成电路。我国集成电路的本土“巨头”的业务范围主要集中在智能卡、多媒体、通信卡等低端业务上。同时,这些企业在成长早期的某个三至五年时间段,都发生过业务量迅猛增长。其中,珠海炬力2002-2005年间销售收入年均增长高达950%;上海展讯通信2007年销售收入相比上年增长了233.1%,中国华大集成电路2004-2006年销售收入年均增长62.6%。
(二)境内大市场能够为企业成长提供比较优势。
境内大市场对企业成长的重要作用的典型表现是:“第二代身份证项目”为中国华大、大唐微电子、上海华虹、清华同方微电子等企业成长提供了较大市场机遇。这里再以珠海炬力对市场的主动开发为例。从2001年开始,珠海炬力推出所谓“保姆式服务”。炬力在销售芯片的同时,免费附送一套完整的MP3制造“操作手册”,对芯片手工、规范、标准、制作和质量等做详细说明。同时,只要买了炬力芯片,炬力服务支持人员会告诉你到哪里买合适的PBC板,到哪里买电容、电阻,成本是多少。客户即便是外行,只要找几个会焊接技术、能看懂图纸的技术人员。然后再买模具回来,往上一扣就可以出货。“保姆式服务”吸引了大量中小厂商进入MP3市场,仅2005年,境内出现的MP3品牌就达600多个。由此,珠海炬力在中国本土成功巨量引爆MP3生产和消费能力。这种操作给矩力销售收入带来了井喷式增长。还有,珠海炬力后来深陷与美国芯片商SigmaTel公司的诉讼纠纷,对向美国出口受到限制,这时,正是面向境内和其他国家的销售为珠海炬力提供了市场缓冲和财务支持。在后来与SigmaTel公司的较量中,珠海炬力要求国内司法机关执行“诉前禁令”,而正是因为考虑到可能失去中国境内大市场,成为外方企业考虑和解的重要权衡因素,中国境内大市场成为斗争筹码之一。实际上,我们再从国际经贸理论提供的论证来看,不论是波特的国家比较优势论,还是战略性贸易理论,或者是杨小凯等人新兴古典贸易理论,境内大市场都是构建国际分工比较优势的重要支持因素之一。
(三)知识产权建设是企业可持续成长的推动力。
具备研究开发实力是启动、占领和拓展市场的基础,也是企业可持续成长的动力。所有快速成长的中国集成电路设计企业都表现出了这个特点,有的企业在技术标准建设上也取得了很大成绩。
1中国华大。2006年华大实现了新增知识产权45项,其中申报发明专利29项,软件著作权登记8项,集成电路版图登记8项。该公司自2003年开始进行WLAN芯片研发工作,成为无线局域网领域的“宽带无线IP标准工作组”正式成员。此外,作为“WAPI产业联盟”发起人单位之一,华大还积极参与到国家WLAN标准的制定。
2深圳海思。海思掌握具有一定地位的IC设计与验证技术,拥有先进的EDA设计平台、开发流程和规范,已经成功开发出100多款自主知识产权的芯片,共申请专利500多项。
3上海展讯通信。展讯近百项发明专利获得国内外正式授权,目前已形成一套核心技术的专利群。
4大唐微电子。公司连续开发出一系列具有自主知识产权的技术与产品,目前,公司共向国家知识产权局申报专利90项。
5珠海炬力。2003年以来,珠海炬力不断加大自主知识产权技术的研发投入力度,并积极申请专利、布图设计、软件著作权、商标权等多种形态知识产权,专利申请量和获得授权的数量实现了迅速增长。
(四)知识产权贸易纠纷提供的教训非常深刻。
在深圳海思尚未从华为拆分出来的时候,华为就在集成系统的软硬件方面和国外厂商有过知识产权摩擦。至于从2005年年初至2007年6月,珠海炬力与美国老牌芯片商SigmaTel的知识产权纠纷所引发的摩擦影响之大、企业投入之巨、持续时间之长、社会关注之广,在我国贸易纠纷历史上极为罕见。这一知识产权贸易纠纷提供的教训值得我国集成电路和高新技术企业长期引以为鉴。
1集成电路企业全球市场份额大幅攀升必然引发知识产权贸易摩擦。2003年以前,SigmaTel曾经在全球MP3芯片市场中占据70%以上的份额。但是,正是由于集成电路产品的快速换代性和消费者群体锁定性,随着珠海炬力的崛起,SigmaTel的市场份额不断遭到炬力蚕食。2006年4月,SigrnaTel第一季度收入较上年同期下降67%,正是出于“生死存亡”的考虑,SigmaTel才选择在珠海炬力成长的关键期,不遗余力地通过诉讼和其他途径,试图“阻击”炬力市场领地的蔓延。
2知识产权诉讼过程本身就会给竞争对手造成重大伤害。在诉讼其间,珠海炬力曾经遭遇对美国出口受到禁止、公司股价大跌、前后诉讼支出超过1000万美元等考验,如若公司没能挺住,可能就倒在诉讼途中。
3与诉讼对手和解,是双方博弈的理性选择。在整个诉讼和反诉过程中,珠海炬力经历“遭诉应诉反诉拒绝和解在对方调整条件后和解”的互动角色变化。而对手Sigma7el则经历“一定程度得手遭反诉提出和解遭到拒绝调整条件后和解”的角色变化。双方的和解与英特尔、微软、IBM、华为等公司与纠纷对手和解有类似之处,是实力较量之后的理性博弈和解。
4企业的知识产权管理必须同步于产品国际市场开拓。2005年以前,珠海炬力的知识产权管理是滞后于国际市场开拓的,当然也谈不上事前对可能陷入的诉讼做前瞻性准备。而正是回应诉讼强烈地推动了企业的知识产权管理。
(五)企业主动“走出去”尚不普遍。
目前就企业国际化而言,境内快速成长的企业均在自身设计产品出口方面取得了较大进展。其中,深圳海思、上海展讯、大唐微电子、珠海炬力等企业的海外销售收入都在公司销售总额中占有一定的比例。其中,2006年,深圳海思出口收入占销售收入的69%,上海展讯占32.6%,大唐微电子占1.4%,珠海炬力占89%。不过,在海外分支机构建设方面,仅深圳海思、上海展迅通信初步取得进展。
三、中国集成电路产业继续突围发展的基本要领
集成电路之所以成为中国的短腿产业,有其内在原因。集成电路企业的启动需要有较先进的技术和较强劲的资本实力作为基础;也需要国内居民普遍的收入达到一定水平,以支撑电脑、手机、消费电子、高端家电等购买阀值相对较高的产品形成市场规模。至于某些中高端芯片产品发展,国内企业还处于成长初期,会面临外方强势跨国公司全面垄断市场的压力。全面考虑这些情况,作为“短腿”的中国集成电路产业的发展历程必定是一个不断在技术和市场上构建优势,并突出外方强势企业重围的过程。
(一)积极拓展产品种类,提升产品档次。
我国现有集成电路企业,现有的集成电路关联企业,如计算机、家电、消费电子、工程服务等产业领域厂商,应该在企业原有的技术和财务实力的基础上,通过开发创新技术、建设技术标准和拓展产品市场,逐步拓宽和提升我国能够设计、开发、制造的集成电路产品种类,乃至实现我国设计的自主品牌集成电路产品,逐渐延伸到手机、计算机用CPU等高端芯片产品领域,并逐渐结束我国在高端集成电路领域的空白状态。
(二)企业主动开发境内大市场。
随着我国居民收入水平不断增长,我国消费购买阀值增大,对像集成电路这种高技术产业的突围成长而言,境内大市场的孵化、支持、缓冲等作用将表现得越来越明显。不过,境内大市场的这种作用需要企业主动去发现、开发和利用。因此,在中国内地企业提升集成电路产品档次、培育民族品牌产品、建设自主技术标准体系的过程中,应该借鉴珠海炬力、中国华大等企业的经验,创造性地拿出市场开发方案,通过生产和消费两方面的促进,激发我国的集成电路市场容量潜力,并实现企业快速成长。
(三)加强技术标准建设,占领知识产权制高点。
境内集成电路企业和集成电路产业关联企业,应以某些技术单点的创新成就为基础,加强产品价值链上下游环节技术创新和专利开发,以点带面,逐步形成本国自主知识产权技术标准集群。企业和政府共同努力,将谋求事实国际标准与国际标准认定结合起来,大力推进技术标准国际化。企业应积极建设产业联盟,集中同行技术实力,削弱国际同行竞争性标准影响力,促进自主产权技术标准建设。政府则应完善技术标准国内管理。同时,积极参加技术标准国际组织和论坛,推动技术标准国际合作机制改革。
(四)企业尽快“走出去”,培育形成民族自主品牌跨国公司。
随着我国自主品牌集成电路产品国际市场份额的增大,随着产品品种逐渐延伸到电子产品CPU等核心环节或高端领域,我国企业与外国跨国公司的直面竞争将在所难免。因此,从指导思想上,在集成电路企业的成长过程中,一定要尽快“走出去”,要以本行业世界一流跨国公司为标杆,构建全球性与区域性恰当结合的研发、生产、销售网络。另外,与集成电路关联的计算机制造、电信服务、工程服务企业,也都应该尽快成长为自主品牌跨国公司,并和集成电路跨国公司成长形成呼应、配合和相互促进的关系。
(五)政府和社会将集成电路产业作为战略产业予以扶持和资助。
集成电路产业具有以下特征:研发和资本需求强度较高,厂商静态动态规模经济效应明显,本国厂商和产业成长面临外方强势竞争对手,这些特征非常符合战略性贸易理论所阐述的战略性产业的特征。因此,政府应将该产业作为战略扶持产业。具体地说,政府应该选择集成电路(潜在)优势企业,运用研发资助、财税优惠、优惠性融资、出口补贴、“走出去”资助,外方优惠政策争取等措施,积极推动本国战略产业厂商提高国际市场份额。此外,政府还应和科研机构、其他社会各界一道,面向集成电路产业,加大基础科学研究力度,加强与科技项目、知识产权、人才培养相关的配套公共管理和服务。
(六)政府统筹建设境内外大市场,加强国际经贸合作关系。
首先要加强境内外关联产品消费设施和流通市场的建设。在国内,特别是在广大农村地区宜采取财政支出、优惠信贷等方式;在境外,主要面向发展中经济贸易伙伴,以政府发展援助、企业公益行动、贸易能力援助等方式,支持或帮助有线无线网络、电力等基础设施建设,改善PC、手机、家电等关联产品流通市场,提升贸易伙伴的贸易能力。其次要策略地开展国际经贸关系合作。积极面向在集成电路产业上和我国不存在竞争关系的经济体,通过FTA/RTA和其他经贸协议,形成(准)共同产品市场关系。第三要优化企业对外投资环境。加强国际投资协定合作和双边协商,破除中国企业境外投资进入障碍。
引言
微电子产业在我国不断的发展壮大,微电子企业对微电子技术人才的需求在逐年增加,高技能型微电子技术人才的缺乏成为制约微电子制造企业发展的瓶颈之一。我校微电子技术专业在“校企共培、角色渐变”的双主体人才培养模式下,不断深化课程体系改革,构建了校企共同构建岗位职业技能培养和学生素质提升并重的课程体系。
《集成电路制造工艺》是微电子技术专业针对集成电路生产企业中集成电路制造工艺员岗位而开设的一门核心主干课,集成电路制造工艺员是微电子技术专业学生就业的重要岗位之一。目前,集成电路制造工艺课程经过多年的校企共同开发建设,在教学内容、教学方法以及教学手段上不断进行探索和实践,获得了一些实践经验。
1.高职集成电路制造工艺课程建设中存在的问题
(1)缺少面向高职学生、适合高职教学的教材。目前出版的集成电路制造工艺教材讲述理论知识的偏多,近年面向高职出版的教材尽管增加了实际操作的内容,但多数停留在设备介绍上面,关于企业实际工艺操作流程介绍还不够。
(2)缺少集成电路制造工艺实践教学条件。集成电路制造实验设备比较专业并且比较昂贵,设备维护费用高,目前开设集成电路工艺课程的学校拥有集成电路制造实验室的学校相当的少,和实际的生产工艺环境存在一定的差距。
(3)教学组织上大多数才用的是传统的课堂理论教学,教学效果不理想。集成电路制造工艺介绍的工艺原理对于高职学生来说过于抽象,难以理解,老师难以调动学生的学习积极性,教学效果总是不理想。
(4)课程考核模式大多数采用传统的笔试的形式,缺乏对学生在学习过程中的考核,对于学生的学习情况不能及时的掌握,导学促教的功能难以发挥。
2.“教学做”一体化教学模式是集成电路工艺课程改革的有效途径
“教学做”一体化的教学模式源于教育学家陶行知先生提出的“教学做合一”思想,强调了“教学做”三者的统一。“教学做”一体化改变了传统的课堂教学模式,通过课堂的开放式教学,使理论知识学习与实践技能的学习有机地融为一体,充分挖掘出学生掌握知识和技能的潜能,使教师和学生之间形成沟通配合的有机整体。
《集成电路制造工艺》要求学生掌握集成电路制造过程中的各项工艺流程的原理,工艺流程的操作过程以及工艺设备的操作方法等。集成电路制造行业背景和生产环境相比与传统的电子产品制造企业有很大不同,因此在集成电路制造生产性实训基地开展教学是非常必要的,同时,生产性集成电路制造工艺实训基地为“教学做”一体化实施提供了有利的条件。
3. “教学做”一体化教学在集成电路制造工艺课程中的实施
3. 1 课程内容以“任务驱动、项目导向”,按照项目化设置
通过长期的教学和企业实践,将集成电路制造工艺课程以制作具有电路功能的芯片为工作任务,按照企业生产车间的划分,把工作任务分解为若干个子任务,每个子任务对应一个项目,按照项目来组织教学。课程主要内容如表1所示。
3.2“教学做”一体化教学实施条件
“教学做”一体化教学的实施离不开现代化的教学条件,因此,实践性教学基地是集成电路制造工艺课程实施的场所保障。
(1)校内外实践基地。我校已经建成了生产性集成电路制造工艺中心,工艺中心的设备及生产环境和集成电路制造企业实际生产环境基本一致,能够满足基本的生产任务需要。微电子技术专业学生在大三将进入校外实训基地微电子企业进行顶岗实习,在企业资深工艺技师的指导下,边学边做,通过“教学做”的不断实践,从而实现学生从学校毕业生就到企业员工的无缝连接。
(2)双师素质的教师队伍。我校和重庆的主要微电子企业在人才培养模式和课程体系建设上有着长期的校企合作。同时,我校的教师深入到企业调研,参与企业生产实践活动,从而使我校的专任教师具备企业工程师素质;同时,企业派工程师参与专业课程标准的制定,共同确定课程教学内容,共同开发教材等。通过学校企业兼职教师培训及鉴定,来自企业的工程师成为我校的企业兼职教师。
3.3 在教学组织实施过程中贯穿“教学做”一体化教学思想
集成电路制造工艺课程根据项目化课程内容,选择集成电路制造工艺中心为教学场地,展开教学组织活动。集成电路制造工艺中心是一个对洁净度要求非常高的工作环境,因次学生到中心学习必须参照企业员工的着装要求及相关规定进入实训室。
首先,由指导老师给学生介绍工艺的原理、设备及操作工艺流程。然后指导老师给学生做工艺操作的演示、学生在旁边观察学习,老师演示工艺操作以后,紧接着由学生自己来动手的操作,老师在旁边进行指导,整个过程老师和学生教学做一体。在组织教学实施中,以学生为中心,工艺操作过程中碰到问题,由学生自己首先思考,寻解决问题的方法和途径,在条件允许的情况下,可以让学生动手去验证自己的想法是否可行,老师则在旁边进行指导,给学生提出建议。
3.4“教学做”一体化教学模式中课程考核形式多样化
“教学做”一体化教学模式,改变了传统的教学模式,因此,对课程的考核注重对过程的考核。
课程的成绩由出勤率占10%+平时课堂表现占60%+期末综合测试占30%组成。平时课堂表现成绩的认定根据各个项目每个学生的参与程度、解决问题的能力的综合表现来给予评定,最后总成绩为各个项目学生所得成绩之和。因此,学生对整个课程的实施必须全程积极参与,否则将会影响期末成绩的评定。一定程度上提高了学生的学习积极性。同时老师能够及时的掌握学生的学习情况,调整教学内容或者教学方法,更好的组织教学工作。
4. 结束语
集成电路制造工艺课程在教学内容的选取上根据学生面向岗位的要求进行设置,在教学组织实施中,以项目化为导向,在教学的过程中运用“教学做”一体化思想,做到教中学,学中做,做中学,使理论和实践有机的结合在一起,实践证明,学生通过该课程的学习,能够具有企业对集成电路工艺员岗位的职业技能要求。集成电路工艺不断有新技术的出现,企业对集成电路制造人才的质量要求在不断提高,因此,课程在以后的建设中需要不断的完善教学内容,提高教学组织的有效性。(作者单位:重庆城市管理职业学院)
资金资助:重庆城市管理职业学院教改课题(2011jgkt0015)
参考文献
1 MPW服务概述
1.1 什么是MPW服务
在集成电路开发阶段,为了检验开发是否成功,必须进行工程流片。通常流片时至少需要6~12片晶圆片,制造出的芯片达上千片,远远超出设计检验要求;一旦设计存在问题,就会造成芯片大量报废,而且一次流片费用也不是中小企业和研究单位所能承受的。多项目晶圆MPW(Multi-Project Wafer)就是将多个相同工艺的集成电路设计在同一个晶圆片上流片,流片后每个设计项目可获得数十个芯片样品,既能满足实验需要,所需实验费用也由参与MPW流片的所有项目分摊,大大降低了中小企业介入集成电路设计的门槛。
1.2 MPW的需求与背景
上世纪80年代后,集成电路加工技术飞速发展,集成电路设计成了IC产业的瓶颈,迫切要求集成电路设计跟上加工技术;随着集成电路应用的普及,集成知识越来越复杂,并向系统靠近,迫切要求系统设计人员参与集成电路设计;为了全面提升电子产品的品质与缩短开发周期,许多整机公司和研究机构纷纷从事集成电路设计。因此,大面积、多角度培养集成电路设计人才迫在眉睫,而集成电路设计的巨额费用成为重要制约因素。
实施MPW技术服务必须有强有力的服务机构、设计部门和IC生产线。
1.3 MPW服务机构的任务
① 建立IC设计与电路系统设计之间的简便接口,以便于系统设计人员能够直接使用各种先进的集成电路加工技术实现其设计构想,并以最快的速度转化成实际样品。
② 组织多项目流片,大幅度减少IC设计、加工费用。
③ 不断扩大服务范围:从提供设计环境、承担部分设计,到承担全部设计、样片生产,以帮助集成电路用户或开发方完成设计项目。
④ 帮助中小企业实现小批量集成电路的委托设计、生产任务。
⑤ 支持与促进学校集成电路的设计与人才培养。
1.4 MPW技术简介
(1)项目启动阶段
MPW组织者首先根据市场需要,确定每次流片的技术参数、IC工艺参数、电路类型、芯片尺寸等。设计时的工艺文件:工艺文件由MPW组织者向Foundry(代工厂)索取,然后再由设计单位向MPW组织者索取。提交工艺文件时,双方都要签署保密协议。
(2)IP核的使用
参加MPW的项目可使用组织者或Foundry提供的IP核,其中软核在设计时提供,硬核在数据汇总到MPW组织者或Foundry处理后再进行嵌入。
(3)设计验证
所有参加MPW的项目汇总到组织者后,由组织者负责对设计的再次验证。验证成功后,由MPW组织者将所有项目版图综合成最终版图交掩膜版制版厂,开始流片过程。
(4)流片收费
每个项目芯片价格按所占Block的大小而非芯片实际大小计算。流片完成后,MPW组织者向每个项目提供10~20片裸片。需封装、测试则另收费。
2 国外MPW公共技术平台与公共技术服务状况
(1)MPW服务机构创意
1980年,美国防部军用先进研究项目管理局(DARPA)建立了非赢利的MPW加工服务机构,即MOS电路设计的实现服务机构MOSIS(MOS Implementation System)服务机构,为其下属研究部门所设计的各种集成电路寻找一种费用低廉的样品制作途径。MPW服务机构与方式的思路应运而生。加工服务内容:从初期的晶圆加工到后续增加的封装、测试、芯片设计。
(2)MOSIS机构的发展
考虑到MPW服务的技术性,1981年MOSIS委托南加州大学管理。在IC产业剧烈的国际竞争环境下,培养集成电路设计人才迫在眉睫。1985年,美国国家科学基金会NSF支持MOSIS,并和DARPA达成协议,将MPW服务对象扩大到各大学的VLSI设计的教学活动;1986年以后在产业界的支持下,将MPW服务扩大到产业部门尤其是中小型IC设计企业;1995年以后,MOSIS开始为国外的大学、研究机构以及商业部门服务。服务收费:国内大学教学服务免费,公司服务收费,国外大学优惠条件收费,国外公司收费较国内公司要高。
(3)其它国家的MPW服务机构
法国:1981年建立了CMP(Circuit Multi Projects)服务机构,发展迅速,规模与MOSIS接近,对国外服务也十分热心。1981年至今,已为60个国家的400个研究机构和130家大学提供了服务,超过2500个课题参加了流片。1990年以前,CMP的服务对象主要是大学与研究所,1990年开始为中小企业提供小批量生产的MPW服务。由于小批量客户的不断增加,2001年的利润比2000年增加了30%。
欧盟:欧盟于1995年建立了有许多设计公司加盟的EUROPRACTICE的MPW服务机构,旨在向欧洲各公司提供先进的ASIC、多芯片模块(MCM)和SoC解决方案,以提高它们在全球市场的竞争地位。EUROPRACTICE采取了"一步到位解决方案"的服务方式,用户只要与任何一家加盟EUROPRACTICE的设计公司联系,就可以由该公司负责与CAD厂商、单元库公司、代工厂、封装公司和测试公司联系处理全部服务事项。
加拿大:1984年成立了政府与工业界支持的非赢利性MPW服务机构CMC(Canadian Microelectronics Corporation)联盟,是加拿大微电子战略联盟(Strategic Microelectronics Consortium)的一部分。目前,CMC的成员包括44所大学和25家企业。CMC的服务包括:提供设计方法和其它产品服务,提高成员的设计水平;提供先进的制造工艺,确保客户的设计质量;提供技术及工艺的培训。
日本:1996年依托东京大学建立了VLSI设计与教育中心VDEC(VLSI Design and Education Center),开展MPC(Multi-Project Chip)服务。VDEC的目标是不断提高日本高校VLSI设计课程教育水平和集成电路制造的支持力度。2001年,共有43所大学的99位教授或研究小组通过VDEC的服务,完成了335个芯片的设计与制造。VDEC与主要EDA供应商都签有协议,每个EDA工具都拥有500~1000个license;需要时,这些license都可向最终用户开放。VDEC还对外提供第三方IP的使用,同时,VDEC本身也在从事IP研究。
韩国:1995年,在韩国先进科学技术研究院(Korea Advanced Institute of Science and Technology)内建立了集成电路设计教育中心IDEC(IC Design Education Center)。
可以看出,世界各先进国家都认识到IC产业在未来世界经济发展中的重要地位,在IC加工技术发展到一定阶段后,抓住了IC产业飞速发展的关键;在IC应用层面上普及IC设计技术和大力降低IC设计、制造费用,并及时建立有效的MPW服务机构,使IC产业进入了飞速发展期。纵观各国MPW服务机构不尽相同,但都具有以下特点:
① 政府与产业界支持的非赢利机构;
② 开放性机构,主要为高等学校、研究机构、中小企业服务;
③ 提供先进的IC设计与制造技术,保证设计出的芯片具有先进性与商业价值;
④ 提供IC设计与制造技术的全程服务。
3 我国MPW现状
我国大陆地区从上世纪80年代后半期开始进入MPW加工服务,从早期利用国外的MPW加工服务机构到民间微电子设计、加工的相关企业、学校联合的MPW服务,到近期政府、企业介入后的MPW公共服务体系的建设,开始显露了较好的发展势头。
3.1 与国外MPW加工服务机构合作
1986年,北京华大与武汉邮科院合作利用德国的服务机构,免费进行了光纤二、三次群芯片组的样品制作,使武汉邮科院的通信产品得以更新换代。此后,上海交大、复旦、南京东南大学、北京大学、清华大学、哈尔滨工业大学都从国外的MPW加工服务中获益匪浅。东南大学利用美国MOSIS机构的MPW加工服务,采用0.25和0.35 ìm的模数混合电路工艺进行了射频和高速电路的实验流片。
在与国外MPW服务机构的合作方面,东南大学射频与光电子集成电路研究所取得显著成果。建所初期就与美国MOSIS、法国CMP建立合作关系。1998年以境外教育机构身份正式加入MOSIS,同年,利用MOSIS提供的台湾半导体公司的CMOS工艺设计规则、模型及设计资料开发了基于Cadence软件设计环境的高速、射频集成电路,完成了5批0.35ìm、3批0.25ìm CMOS工艺共40多个电路的设计与制造,取得了许多国内领先、世界先进水平成果。2000年东南大学射光所还与法国的CMP组织正式签订了合作协议。
为了推动大陆的MPW服务,射光所从2000年开始利用美国MOSIS机构为国内客户服务,建立了MPW服务网页,向公众及时流片时间及加入MPW的流程和手续。2001年,射光所通过MOSIS利用TSMC的0.35和0.25ìm CMOS工艺为清华大学、信息产业部第13所、南通工学院完成了3批10多个芯片的设计制造。目前,10多个高校、研究机构、企业成为射光所MPW成员。
3.2 高校、企业、研究机构合作实现MPW服务
90年代,上海复旦大学开始着手建立国内MPW加工服务机构;1995年,无锡上华微电子公司开始承担MPW加工服务,并于1996年组织了第一次MPW流片;1997年至1999年在上海市政府的支持下,连续组织了6次MPW流片,参加项目有82个;2000年受国家火炬计划、上海集成电路设计产业化基地、上海市科委及上海集成电路设计研究中心委托又组织了3次35个项目的MPW流片。清华大学与无锡上华合作,针对上华工艺,开发了0.6ìm单元库,开始了MPW加工服务,并将校内的工艺线用于MPW加工服务。近年来,在863 VLSI重大项目规划指引下,在上海、北京、深圳、杭州等地陆续成立了集成电路产业化基地,进一步推动了MPW加工服务的开展。清华大学从2000年开始,利用上华0.6ìm CMOS工艺为本校以及浙江大学、合肥工业大学组织了4次MPW流片,总共实现了106项设计;上海集成电路设计研究中心与复旦大学,于2001年利用上华1.0和0.6ìm CMOS工艺和TSMC的0.3ìm CMOS工艺,为产业界、教育界进行了8次MPW流片,实现了109个设计项目。
随着中国半导体工业飞速发展,将会在更多的先进工艺生产线为MPW提供加工服务,许多境外的半导体公司也在积极支持我国的MPW加工服务。随着上海、北京多条具有国际先进水平的深亚微米CMOS工艺线的建成,国家级的MPW计划会得到飞速发展。
3.3 台湾地区的MPW加工服务
1992年在台湾科学委员会的支持下,成立了集成电路设计和系统设计研究中心CIC。其目的是对大专院校的集成电路/系统设计提供MPW服务,对集成电路/系统设计人员进行培训,并推动产业界与学院的合作研究项目。到目前为止,CIC已为超过100家的台湾院校提供了MPW服务,总计有3909个IC项目流片成功,其中,76家大专院校有3423项,40多家研究所和产业界有486项。在EDA工具方面,有多家的IC/SYSTEM设计工具已运用在MPW的设计流程中。到目前为止,已有91家大专院校安装了14 100多个EDA工具的许可证,另外,0.6ìm 1P3M CMOS、0.35ìm1P4M CMOS、0.25 ìm1P5M CMOS和0.18ìm1P6M CMOS的标准单元库已开始使用。除了常规MPW服务,CIC还向大专院校提供培训:2001年有7000人次,每年还有2次为产业界提供的高级培训。
台湾积体电路制造股份公司(台积公司:TSMC)从1998年提供MPW服务,成为全球IC设计的重要伙伴。2000年以来台积公司提供了100多次MPW服务,并完成了1000个以上IC芯片项目的研制。目前,台积公司已分别与上海集成电路设计研究中心、北京大学微处理器研究开发中心合作,提供MPW服务。
4 我国大陆地区MPW服务基地的建设
由于大陆地区原有微电子研究机构的历史配置,在进入基于MPW服务方式后,这些研究机构先后都介入了IC设计的MPW服务领域,并开始建立相应的MPW服务基地。
4.1 上海复旦大学与集成电路设计研究中心(ICC)
上海复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室在上海市政府支持下,于1997年成立了"上海集成电路设计教育服务中心"。主要任务是IC设计人才培养和组织MPW服务。1997~1999年组织了6次MPW流片。2000~2001年上海市科委设立"上海多项目晶圆支援计划",把开展MPW列为国家集成电路设计上海产业化基地的重点工作。在市科委组织下,复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室与ICC实现强强联合,面向全国,于2000年组织了3次、2001年组织了5次MPW流片。ICC于2001年底正式与TSMC达成合作协议,开展0.35ìm MPW流片服务。2002年与中芯国际集成电路制造(上海)有限公司(SMIC)合作推出本土0.35ìm及以下工艺的MPW流片服务。从ICC设立的网站(icc.sh.cn) 可了解MPW最新动态和几乎所有的MPW服务信息。
4.2 南京东南大学射频与光电子集成电路研究所
1998年,南京东南大学射光所以境外教育机构的身份正式加入美国MOSIS,并签订有关协议,由此可获得多种工艺流片服务。2000年5月与法国的CMP签订了合作协议。1999年底受教育部委托,举办了"无生产线集成电路设计技术"高级研讨班。从2000年开始建立了MPW服务网页,通过网页向公众公布流片时间及加入MPW的流程和手续,目前,高速数字射频和光电芯片测试系统已开始运行,准备为全国超高速数字、射频和光电芯片研究提供技术支持,有许多高校、研究单位、公司已成为射光所MPW成员。
4.3 国家集成电路设计产业化(北京)基地MPW加工服务中心
在北京市政府的支持与直接参与下建立了"北京集成电路设计园有限责任公司"。正在建设中的国家集成电路设计产业化(北京)基地MPW加工服务中心由北京华兴微电子有限公司为承担单位,联合清华大学、北京大学共同建设。
4.4 北方微电子产业基地TSMC MPW技术服务中心
随着国际各大半导体制造企业进入中国,中国的半导体测试业伴随半导体设计/制造业一样进入国际化。中国的半导体测试业必须选择恰当的切入点,在满足现有低端测试服务的基础上,大力开拓中端市场;在高端市场上积极开展合作,引进技术,争取跨越式发展。
测试对设备的新要求
随着IC设计、制造业的快速发展,高速、高密度、SOC、ASIC等新型芯片不断出现,对测试设备提出了高速、高密度、通用性、高性/价比的要求。但高速、高密度、高性能的要求,必然导致测试系统的工艺、结构、器件性能、复杂性的提高,从而使得测试系统体积增加、成本提高。虽然新技术、新器件的使用,提高了测试系统的速度和性能,降低了功耗和成本,但测试性能永远要高于被测芯片的性能,新型高性能IC的速度达到几百兆甚至几千兆,通道数达到几百个到几千个。所以高端、高性能的测试系统仍然是高价格、大体积的特点。
国际上先进的测试设备制造商都针对主流测试市场推出中、高档测试设备、但任何一款测试设备都不能满足不断更新的测试需求,性能、价格的矛盾,适应性和复杂性的矛盾仍需解决。各大测试设备制造商(如泰瑞达、爱德万)都先后提出测试系统的开放性和标准化,使系统具有灵活配置、不断升级、快速编程,以适应各种测试需求。但目前国际化的测试系统开放性标准仍未形成。主要是各大测试设备制造商都希望采用各自的标准。所以目前测试系统的开放标准都有局限性。
国内测试市场正以前所未有的速度增长,随着中国CAD设计水平的提高,将会有大量的各类SOC、ASIC等国产芯片出现,贴近测试市场,提供快速、灵活配置,优良的技术服务,符合国内市场需求价位的国产测试设备,将是最受欢迎的测试设备。为此,北京自动测试技术研究所早在1998年就开展了开放性测试系统的研发,我们采用国际仪器、测控行业推行的开放性、标准化总线VXI、PXI总线,使我们的设备从低端到中高端产品都建立在统一的开放性、标准化总线结构上,保证了产品的兼容性、延续性、开放性及标准化的特点,加快了产品的升级换代。利用其开放性、标准化特点,可方便插入各仪器制造商提供的通用VXI、PXI测量,测试模块灵活配置系统。这对今后大量涌现的数模混合、SOC芯片测试提供了大量测试资源。能够根据测试需求,以最优性/价比配置系统。
测试服务业的新机遇
到2010年,全国集成电路产量将要达到500亿块,将占当时世界市场份额的5%,满足国内市场50%的需求,基本形成具有一定规模的产业群和较为完整的产业链。集成电路产业是由设计业、制造业、封装业和测试业等四业组成。测试业的生存和发展与IC产业息息相关。
为推动集成电路设计业更快发展,进一步加大产品创新力度、加强芯片与系统整机、应用之间的合作,突出物联网在集成电路设计未来发展中的核心作用,本届年会特选址在物联网发展核心城市――无锡市举办。无锡是我国微电子产业的发源地,2008年成为继上海之后的全国第二个微电子高技术产业基地。2009年,无锡的IC产能、制造技术全国排名第一,IC晶圆制造业销售收入145亿元,占江苏省91 %,占全国42%;无锡的IC封装测试处于全国第三,技术水平和单体规模全国第一,IC封测业销售收入89亿元,占江苏省的38%,占全国的18%。无锡目前拥有集成电路设计企业100余家, 2009年集成电路设计产业实现销售收入35.33亿元,全国排名第四,仅次于北京、深圳、上海之后。2009年8月7日,总理在视察无锡时提出“在激烈的竞争中,迅速建立中国的感知中国中心”这一重要指示。随后的2009年11月13日,国务院正式批准同意支持无锡建设国家传感网创新示范区(国家传感信息中心)。本届年会选择在国内物联网基础条件最完善、技术能力最先进、相关专业人才最集聚的城市――无锡召开,充分发挥了无锡雄厚的IC设计基础和物联网发展主导地位的巨大优势,必定进一步推动物联网与集成电路设计产业间的合作发展,将成为我国集成电路设计产业发展的重要转折点,具有重大的现实和历史意义,
本届年会以“加大产业整合,培育国产品牌,推动产业更好更快发展”为主题,突出集成电路设计与物联网的共赢发展,强调产品自主创新和精品意识,倡导行业上下游合作和国内外合作,促进新时期我国集成电路设计业的快速发展,推动集成电路产业链的互动。
会议分高峰论坛、专题研讨、产品展示三个部分,来自全球十多个国家和地区的近50家顶尖IC(集成电路)企业展示了各自最新的产品与技术,在大会第一天的高峰论坛上,新思、Cadence、明导、台积电、ARM、芯原、华润上华、华润矽科、展讯、锐迪科等知名企业的高层代表围绕产业现状、机遇与挑战、调整与创新、合作与共赢等相关议题,和与会代表分享了各自的观点。国家发改委、工业和信息化部、科技部、中国半导体行业协会、江苏省与其他省市有关领导;无锡市有关产业管理部门领导及市(县)、区经信局领导、重点园区负责人;“核高基”科技重大专项总体专家组及高端通用芯片实施专家组成员;国内外有关专家;国家集成电路设计产业化基地代表;国内外物联网和集成电路设计企业及IP服务厂商、EDA(电子设计自动化工具)厂商、Foundry(代工)厂商、封装测试厂商、系统厂商、风险投资公司和有关媒体代表等共700多人参加了会议。
大会第二天以分会场的形式举办了八场专题论坛,包括物联网与IC设计、华润上华与您共同成长、IC设计与EDA软件、TSMC开放创新平台、IP与IC设计、FOUNDRY与工艺技术、IC设计与设计服务、IC设计与封装测试,精彩内容使得会场座无虚席,让参会代表受益匪浅。特别是其中的物联网与IC设计分论坛,已深度涉足物联网领域的无锡IC设计企业代表,用生动的亲身体会向参会代表描绘出IC设计产业借助物联网实现突破发展的美好前景和宏伟蓝图。
中国半导体行业协会集成电路设计分会常务副理事长魏少军教授为大会做了题为“抓住战略性新兴产业发展机遇,推动设计产业更上一层楼”的主旨报告。他指出,战略性新兴产业的发展离不开集成电路,也为集成电路创造了全新的发展空间。集成电路责无旁贷地要担负起支撑产业升级,经济结构调整、发展模式转变的重任。显然,在这个全新的领域,集成电路设计企业要用创新的思维去积极探索和实践新的商业模式,走出一条新路。
针对产业现状以及发展趋势,魏少军副理事长为集成电路设计企业提出了几点建议:一要苦练内功,提升核心能力;二要加强与工艺的结合;三要加大新产品的开发力度;四要走出国门,努力开拓新市场;五要加大整合和重组力度。
“创造是制造的源泉,制造是创造的延伸,而集成电路设计是产品创新的源头”,在提到集成电路设计企业的未来发展时,中国半导体行业协会集成电路设计分会理事长王芹生女士表示,“我们必须实施大品牌战略,建设从创造到制造的完整产业链,用创新迎接集成电路产业的未来。“以人为本”是未来集成电路市场的发展趋势,也是将我国建成集成电路产业强国的强大驱动力。我们相信在“以人为本”的不断创新中,在不久的将来,中华民族的伟大复兴一定能尽快实现”。
“物联网-IC设计发展的新机遇”,无锡市信息化和无线电管理局局长张克平以国内最专业、最权威的角度解读了物联网与IC设计产业共赢发展的必要性和必然性,并表示:“无锡将要举全市之力,汇全国之智,聚全球之才,全方位推进国家传感网创新示范区,作为推动物联网产业发展的重要切入点,IC设计产业的爆发式增长已大势所趋,要切实把握住这一重大机遇,为我国物联网和IC设计产业的发展作出贡献。”