主办单位:中国电子科技集团公司第四十五研究所 主管单位:中国电子科技集团公司 ISSN:1004-4507 CN:62-1077/TN
《电子工业专用设备》由葛劢翀担任主编,由中国电子科技集团公司第四十五研究所主办的一本电子类部级期刊。该刊创刊于1971年。主要刊登电子学科方面有创见的学术论文,介绍有特色的科研成果,探讨有新意的学术观点提供交流平台,扩大国内外同行学术交流。本刊为双月刊,A4开本,全年定价¥256.00元。欢迎广大读者订阅或投稿。
《电子工业专用设备》是一本由中国电子科技集团公司主管,中国电子科技集团公司第四十五研究所主办的一本面向国内外公开发行的电子类期刊,该刊主要报道电子相关领域的研究成果与实践。该刊已入选部级期刊。 影响因子为0.3 《电子工业专用设备》主要内容栏目有先进封装技术与设备、半导体制造工艺与设备、电子专用设备研究、专用设备维护与保养。
《电子工业专用设备》主要发文机构有:中国电子科技集团公司第四十五研究所(发文量646篇),该机构主要研究主题为“半导体;光刻;晶圆;电机;抛光”;中国电子科技集团公司第二研究所(发文量229篇),该机构主要研究主题为“真空;电池;低温共烧陶瓷;太阳能;封装”;中国电子科技集团公司第四十八研究所(发文量168篇),该机构主要研究主题为“电池;太阳能电池;太阳能;均匀性;离子注入”。
《电子工业专用设备》主要发文主题有半导体、电路、封装、芯片、集成电路、晶圆、光刻、半导体设备、太阳能、半导体产业。其中又以”半导体(1260篇)”居于榜首,发文量第二的是“电路”(448篇),发文量第三的是“封装”(436篇),发文主题最少的是“半导体产业”,仅发文166篇。
1、来稿要求:
本刊欢迎下列来稿:电子及相关学科领域的研究方面的论著,反映国内外电子学术动态的述评、论著、综述、讲座、学术争鸣的文稿,以及有指导意义的电子书刊评价等。文稿应具科学性、先进性、新颖性和实用性,内容翔实,简明扼要,重点突出,文字数据务求准确,层次清楚,标点符号准确,图表规范,书写规范。本刊不接受已公开发表的文章,严禁一稿两投。对于有涉嫌学术不端行为的稿件,编辑部将一律退稿,来稿确保不涉及保密、署名无争议等,文责自负。
2、作者简介:
述评、专家论坛、指南解读栏目来稿请附第一作者及通信作者的个人简介及近照。个人简介内容包括职称、职务、学术兼职、主要研究领域、主要研究成果、所获重大荣誉奖项等,字数以 100~300 字为宜。近照以 2 寸免冠彩色证件照为宜,格式为“.jpg”,像素不得低于 300 dpi。
3、文题:
文题力求简明、醒目,反映文稿主题,中文文题控制在 20 个汉字以内。题名中应避免使用非公知公用的缩略语、字符、代号以及结构式和公式。有英文摘要者同时给出英文文题,中英文文题含义应一致。
4、图表:
文中所有图表均需为作者自行制作而非引用他人文献中的图表。图表力求简明,设计应科学,避免与正文重复。凡能用少量文字说明的数据资料尽量不用图表。正文与表中数据应认真核对,准确无误,表内数据同一指标的有效位数应一致。
机构名称 | 发文量 | 主要研究主题 |
中国电子科技集团公司第四十五研究所 | 646 | 半导体;光刻;晶圆;电机;抛光 |
中国电子科技集团公司第二研究所 | 229 | 真空;电池;低温共烧陶瓷;太阳能;封装 |
中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 168 | 电池;太阳能电池;太阳能;均匀性;离子注入 |
中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 118 | 单晶;硅单晶;硅片;晶片;区熔 |
电子工业部 | 115 | 半导体;光刻;曝光机;切片;切片机 |
北京中电科电子装备有限公司 | 92 | 晶圆;划片;划片机;键合;封装 |
中华人民共和国工业和信息化部 | 75 | 光刻;电路;电子专用设备;集成电路;半导体 |
中国电子科技集团公司 | 68 | 电路;集成电路;化学机械抛光;机械抛光;晶片 |
中国电子科技集团第十三研究所 | 66 | 光刻;刻蚀;激光;光刻机;投影光刻 |
中国科学院 | 54 | 光刻;光刻机;电路;半导体;电子束曝光 |
资助项目 | 涉及文献 |
国家自然科学基金 | 39 |
国家高技术研究发展计划 | 37 |
国家科技重大专项 | 29 |
国家重点基础研究发展计划 | 7 |
海南省自然科学基金 | 6 |
湖南省自然科学基金 | 3 |
国家火炬计划 | 3 |
国防基础科研计划 | 2 |
电子信息产业发展基金 | 2 |
国际科技合作与交流专项项目 | 2 |